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RTP グラファイトキャリアプレート

Semicorex の RTP グラファイトキャリアプレートは、エピタキシャル成長やウェーハハンドリング処理などの半導体ウェーハ処理アプリケーションに最適なソリューションです。当社の製品は、優れた耐熱性と熱均一性を提供するように設計されており、エピタキササセプタが成膜環境にさらされても高い耐熱性と耐食性を備えています。

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Semicorex RTP SiC コーティングキャリアは、優れた耐熱性と熱均一性を備え、半導体ウェーハ処理用途に最適なソリューションです。高品質の SiC コーティングされたグラファイトを備えたこの製品は、エピタキシャル成長のための最も過酷な堆積環境に耐えるように設計されています。高い熱伝導率と優れた熱分布特性により、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄において信頼性の高いパフォーマンスが保証されます。

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RTP/RTA SiC コーティングキャリア

Semicorex RTP/RTA SiC コーティングキャリアは、成膜環境の最も厳しい条件に耐えるように設計されています。高い耐熱性と耐腐食性を備えたこの製品は、エピタキシャル成長に最適な性能を発揮するように設計されています。 SiC コーティングされたキャリアは、高い熱伝導率と優れた熱分散特性を備えており、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に対して信頼性の高いパフォーマンスを保証します。

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MOCVD用SiCグラファイトRTPキャリアプレート

MOCVD 用 Semicorex SiC グラファイト RTP キャリアプレートは、優れた耐熱性と熱均一性を備え、半導体ウェーハ処理用途に最適なソリューションです。高品質の SiC コーティングされたグラファイトを使用したこの製品は、エピタキシャル成長のための最も過酷な堆積環境に耐えるように設計されています。高い熱伝導率と優れた熱分布特性により、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄において信頼性の高いパフォーマンスが保証されます。

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エピタキシャル成長用のSiCコーティングRTPキャリアプレート

Semicorex エピタキシャル成長用 SiC コーティング RTP キャリアプレートは、半導体ウェーハ処理アプリケーションに最適なソリューションです。グラファイトやセラミックスなどの表面にMOCVD法で加工した高品質なカーボングラファイトサセプタと石英るつぼを備えており、ウェーハハンドリングやエピタキシャル成長処理に最適です。 SiC コーティングされたキャリアは高い熱伝導率と優れた熱分布特性を保証し、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に信頼できる選択肢となります。

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RTP RTA SiC コーティングキャリア

Semicorex は、中国における炭化ケイ素コーティングされたグラファイトサセプタの大規模メーカーおよびサプライヤーです。 Semicorex グラファイトサセプタは、中国で高い耐熱性と耐腐食性を備えたエピタキシー装置用に特別に設計されました。当社の RTP RTA SiC コーティングキャリアは価格面で優れており、ヨーロッパおよびアメリカ市場の多くをカバーしています。私たちはあなたの長期的なパートナーになることを楽しみにしています。

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