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中国 シャワーヘッド メーカー、サプライヤー、工場

SiC(炭化ケイ素)シャワーヘッドは、特に半導体製造業界のさまざまな産業プロセスで使用される特殊な部品です。化学蒸着 (CVD) およびエピタキシャル成長プロセス中にプロセスガスを均一かつ正確に分配および供給するように設計されています。

 

シャワーヘッドは、その表面に複数の均一に分散された穴またはノズルを備えたディスクまたはプレートのような形状です。これらの穴はプロセスガスの出口として機能し、プロセスガスをプロセスチャンバーまたは反応チャンバーに注入できるようにします。穴のサイズ、形状、分布は、特定の用途やプロセス要件に応じて異なります。

 

SiC シャワーヘッドを使用する主な利点の 1 つは、その優れた熱伝導率です。この特性により、効率的な熱伝達とシャワーヘッド表面全体の均一な温度分布が可能になり、ホットスポットを防止し、一貫したプロセス条件を確保します。熱伝導率の向上により、プロセス後のシャワーヘッドの急速冷却も可能になり、ダウンタイムが最小限に抑えられ、全体的な生産性が向上します。

 

SiC シャワーヘッドは耐久性が高く、腐食性ガスや高温に長時間さらされた場合でも摩耗や損傷に強いです。この寿命の長さは、メンテナンス間隔の延長と機器のダウンタイムの削減につながり、コストの削減とプロセスの信頼性の向上につながります。

 

SiC シャワーヘッドは、堅牢性に加えて、優れたガス分散機能を備えています。精密に設計された穴のパターンと構成により、基板表面全体に均一なガスの流れと分布が確保され、一貫した膜の堆積が促進され、デバイスのパフォーマンスが向上します。均一なガス分布は、膜厚、組成、その他の重要なパラメータの変動を最小限に抑えるのにも役立ち、プロセス制御と歩留まりの向上に貢献します。

 

Semicorex は、低抵抗焼結炭化ケイ素半導体シャワーヘッドを提供しています。当社は、さまざまな独自の機能を活用して、高度なセラミック材料をカスタム設計して供給する能力を備えています。




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拡散炉管

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Semicorex 拡散炉管は、半導体製造装置内の重要なコンポーネントであり、半導体製造プロセスに不可欠な正確で制御された反応を促進するように特別に設計されています。拡散炉管は、半導体炉の反応ゾーン内の主要な容器として、製造される半導体デバイスの完全性と品質を確保する上で極めて重要な役割を果たします。 Semicorex は高品質の製品を競争力のある価格で提供することに尽力しており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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CVD-SiCシャワーヘッド

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Semicorex CVD-SiC シャワーヘッドは、耐久性、優れた熱管理、化学劣化に対する耐性を備えているため、半導体業界の要求の厳しい CVD プロセスに適した選択肢となっています。 Semicorex は高品質の製品を競争力のある価格で提供することに尽力しており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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CVD SiC コーティングされたグラファイト シャワー ヘッド

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ウェーハ上に材料をエッチングおよび化学蒸着(CVD)するためのプラズマ装置では、プロセスガスは、CVD SiC コーティングされたグラファイト シャワー ヘッドを通じてプロセス チャンバに供給されます。 Semicorex は高品質の製品を競争力のある価格で提供することに尽力しており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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Semicorex は シャワーヘッド を長年生産しており、中国のプロの シャワーヘッド メーカーおよびサプライヤーの 1 つです。バルク梱包を提供する高度で耐久性のある製品を購入すると、迅速な配達で大量の製品を保証します。長年にわたり、お客様にカスタマイズされたサービスを提供してきました。お客様は当社の製品と優れたサービスに満足しています。私たちはあなたの信頼できる長期的なビジネスパートナーになることを心から楽しみにしています!私たちの工場から製品を購入することを歓迎します。
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