Semicorex は、半導体プロセスを改善するためのパートナーです。当社の炭化ケイ素コーティングは緻密で、高温、耐薬品性に優れており、半導体ウエハおよびウエハ処理、半導体製造を含む半導体製造のサイクル全体でよく使用されます。
高純度の SiC セラミック コンポーネントは、半導体プロセスに不可欠です。当社の製品は、エピタキシーまたは MOCVD 用の炭化ケイ素ウェーハボート、カンチレバーパドル、チューブなどのウェーハ処理装置の消耗部品に及びます。
半導体プロセスの利点
エピタキシーや MOCVD などの薄膜堆積段階、またはエッチングやイオン注入などのウェーハ処理プロセスは、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。 Semicorex は、優れた耐熱性と耐久性のある耐薬品性を備えた高純度の炭化ケイ素 (SiC) 構造を提供し、均一な熱均一性により一貫したエピ層の厚さと抵抗を実現します。
チャンバー蓋 →
結晶成長やウェーハ取り扱い処理に使用されるチャンバー蓋は、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。
カンチレバーパドル →
カンチレバー パドルは、半導体製造プロセス、特に拡散や RTP などのプロセス中の拡散炉や LPCVD 炉で使用される重要なコンポーネントです。
プロセスチューブ →
プロセス チューブは、RTP、拡散などのさまざまな半導体処理アプリケーションで特別に設計された重要なコンポーネントです。
ウエハーボート →
Wafer Boat は半導体処理に使用され、製造の重要な段階でデリケートなウェハーが安全に保たれるように細心の注意を払って設計されています。
インレットリング →
MOCVD装置によるSiCコーティングガス入口リング 化合物成長により耐熱性、耐食性が高く、極限環境下でも安定性が優れています。
フォーカスリング →
Semicorex が提供する炭化ケイ素コーティングされたフォーカス リングは、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に対して非常に安定しています。
ウエハチャック →
Semicorex の超平面セラミック真空ウエハ チャックは、ウエハ ハンドリング プロセスで使用される高純度 SiC コーティングが施されています。
Semicorex では、アルミナ (Al2O3)、窒化ケイ素 (Si3N4)、窒化アルミニウム (AIN)、ジルコニア (ZrO2)、複合セラミックなどのセラミック製品も取り揃えています。
セミコレックスアルミナ取り付けベースプレートは、半導体製造における正確なウェーハの取り扱いのために設計された高性能セラミックコンポーネントです。その優れた強度、断熱、および熱安定性により、クリーンルームの自動化環境を要求するのに最適です。
続きを読むお問い合わせを送信セミコレックス炭化シリコン真空チャックは、多孔質炭化物から作られた高性能ウェーハハンドリングソリューションです。取り付け(ワックスング)、薄く、脱線、洗浄、障害、迅速な熱アニーリング(RTA)などの重要なプロセス中に、半導体ウェーハの真空吸着のために特異的に設計されています。一致していない材料の純度、寸法精度、および要求の厳しい半導体環境における信頼できるパフォーマンスについては、セミコレックスを選択してください。*
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex Alumina Robot Armは、半導体製造における正確なウェーハ処理のために設計された高性能セラミックコンポーネントです。その優れた強度、断熱、および熱安定性により、クリーンルームの自動化環境を要求するのに最適です。
続きを読むお問い合わせを送信セミコレックスアルミナセラミックエンドエフェクターは、半導体製造および関連用途における信頼性の高い汚染のないウェーハ処理用に特別に設計された精密設計コンポーネントです。*
続きを読むお問い合わせを送信セミコレックス多孔質SICチャックは、半導体処理に安全で均一なウェーハ吸着のために設計された高性能セラミック真空チャックです。その設計されたマイクロ多孔質構造により、優れた真空分布が保証され、精密アプリケーションに最適です。*
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