Semicorex は、半導体プロセスを改善するためのパートナーです。当社の炭化ケイ素コーティングは緻密で、高温、耐薬品性に優れており、半導体ウエハおよびウエハ処理、半導体製造を含む半導体製造のサイクル全体でよく使用されます。
高純度の SiC セラミック コンポーネントは、半導体プロセスに不可欠です。当社の製品は、エピタキシーまたは MOCVD 用の炭化ケイ素ウェーハボート、カンチレバーパドル、チューブなどのウェーハ処理装置の消耗部品に及びます。
半導体プロセスの利点
エピタキシーや MOCVD などの薄膜堆積段階、またはエッチングやイオン注入などのウェーハ処理プロセスは、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。 Semicorex は、優れた耐熱性と耐久性のある耐薬品性を備えた高純度の炭化ケイ素 (SiC) 構造を提供し、均一な熱均一性により一貫したエピ層の厚さと抵抗を実現します。
チャンバー蓋 →
結晶成長やウェーハ取り扱い処理に使用されるチャンバー蓋は、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。
カンチレバーパドル →
カンチレバー パドルは、半導体製造プロセス、特に拡散や RTP などのプロセス中の拡散炉や LPCVD 炉で使用される重要なコンポーネントです。
プロセスチューブ →
プロセス チューブは、RTP、拡散などのさまざまな半導体処理アプリケーションで特別に設計された重要なコンポーネントです。
ウエハーボート →
Wafer Boat は半導体処理に使用され、製造の重要な段階でデリケートなウェハーが安全に保たれるように細心の注意を払って設計されています。
インレットリング →
MOCVD装置によるSiCコーティングガス入口リング 化合物成長により耐熱性、耐食性が高く、極限環境下でも安定性が優れています。
フォーカスリング →
Semicorex が提供する炭化ケイ素コーティングされたフォーカス リングは、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に対して非常に安定しています。
ウエハチャック →
Semicorex の超平面セラミック真空ウエハ チャックは、ウエハ ハンドリング プロセスで使用される高純度 SiC コーティングが施されています。
Semicorex では、アルミナ (Al2O3)、窒化ケイ素 (Si3N4)、窒化アルミニウム (AIN)、ジルコニア (ZrO2)、複合セラミックなどのセラミック製品も取り揃えています。
Semicorex窒化シリコンプレートは、高度な電力モジュールに並外れた熱性能と機械的信頼性を提供するように設計された高強度セラミック基質です。 Semicorexを選択するということは、精密な製造、厳格な品質管理、および最も要求の厳しいアプリケーションでも一貫したパフォーマンスを確保する材料エンジニアリングの専門知識の恩恵を受けることを意味します。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex Horizontal Chamber Furnace sic Boatsは、高温水平炉の加工中に安全なウェーハ保持用に設計された高純度の炭化炭化物キャリアです。 Semicorexを選択するということは、一貫した高収量生産のための正確なエンジニアリング、例外的な耐久性、および優れた熱性能の恩恵を受けることを意味します。
続きを読むお問い合わせを送信セミコレックス炭化シリコンスキャンミラーは、最も要求の厳しい光学スキャンアプリケーションに並外れた精度、速度、安定性を提供します。 SICエンジニアリングの比類のない専門知識については、高性能光学システムにおけるテーラードジオメトリ、プレミアムコーティング、実証済みの信頼性を提供するために、Semicorexを選択してください。*
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