Semicorex は、半導体プロセスを改善するためのパートナーです。当社の炭化ケイ素コーティングは緻密で、高温、耐薬品性に優れており、半導体ウエハおよびウエハ処理、半導体製造を含む半導体製造のサイクル全体でよく使用されます。
高純度の SiC セラミック コンポーネントは、半導体プロセスに不可欠です。当社の製品は、エピタキシーまたは MOCVD 用の炭化ケイ素ウェーハボート、カンチレバーパドル、チューブなどのウェーハ処理装置の消耗部品に及びます。
半導体プロセスの利点
エピタキシーや MOCVD などの薄膜堆積段階、またはエッチングやイオン注入などのウェーハ処理プロセスは、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。 Semicorex は、優れた耐熱性と耐久性のある耐薬品性を備えた高純度の炭化ケイ素 (SiC) 構造を提供し、均一な熱均一性により一貫したエピ層の厚さと抵抗を実現します。
チャンバー蓋 →
結晶成長やウェーハ取り扱い処理に使用されるチャンバー蓋は、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。
カンチレバーパドル →
カンチレバー パドルは、半導体製造プロセス、特に拡散や RTP などのプロセス中の拡散炉や LPCVD 炉で使用される重要なコンポーネントです。
プロセスチューブ →
プロセス チューブは、RTP、拡散などのさまざまな半導体処理アプリケーションで特別に設計された重要なコンポーネントです。
ウエハーボート →
Wafer Boat は半導体処理に使用され、製造の重要な段階でデリケートなウェハーが安全に保たれるように細心の注意を払って設計されています。
インレットリング →
MOCVD装置によるSiCコーティングガス入口リング 化合物成長により耐熱性、耐食性が高く、極限環境下でも安定性が優れています。
フォーカスリング →
Semicorex が提供する炭化ケイ素コーティングされたフォーカス リングは、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に対して非常に安定しています。
ウエハチャック →
Semicorex の超平面セラミック真空ウエハ チャックは、ウエハ ハンドリング プロセスで使用される高純度 SiC コーティングが施されています。
Semicorex では、アルミナ (Al2O3)、窒化ケイ素 (Si3N4)、窒化アルミニウム (AIN)、ジルコニア (ZrO2)、複合セラミックなどのセラミック製品も取り揃えています。
Semicorex SiC コーティングされたガス分流ディスクは、半導体エピタキシャル装置に適用される不可欠なグラファイト コンポーネントであり、反応ガスの流れを調整し、反応チャンバー内の均一なガス分布を促進するように特別に設計されています。 Semicorex を選択し、高品質のウェーハ エピタキシャル結果を得るために最適なガス分流ソリューションを選択してください。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex SiC ウェーハキャリアは、3D プリント技術により高純度の炭化ケイ素セラミックで作られているため、短時間で高貴な機械加工コンポーネントを実現できます。 Semicorex は、世界中のお客様に認定された高品質の製品を提供するとみなしています。*
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex CVD SiC コーティングされた上部接地リングは、高度なプラズマ エッチング装置用に特別に設計された重要なリング状コンポーネントです。セミコレックスは、業界をリードする半導体コンポーネントのサプライヤーとして、高品質、長寿命、超クリーンな CVD SiC コーティングの上部接地リングの提供に注力し、大切なお客様の業務効率と全体的な製品品質の向上を支援します。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex アルミナ ウェーハ研磨プレートは、ハイエンド半導体産業におけるウェーハ研磨プロセス用に特別に設計された、アルミナ セラミック製の高性能研磨コンポーネントです。 Semicorex を選択する場合は、コスト効率の高い価格設定、優れた耐久性、高効率の処理パフォーマンスを備えた製品をお選びください。
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