Semicorex は、半導体プロセスを改善するためのパートナーです。当社の炭化ケイ素コーティングは緻密で、高温、耐薬品性に優れており、半導体ウエハおよびウエハ処理、半導体製造を含む半導体製造のサイクル全体でよく使用されます。
高純度の SiC セラミック コンポーネントは、半導体プロセスに不可欠です。当社の製品は、エピタキシーまたは MOCVD 用の炭化ケイ素ウェーハボート、カンチレバーパドル、チューブなどのウェーハ処理装置の消耗部品に及びます。
半導体プロセスの利点
エピタキシーや MOCVD などの薄膜堆積段階、またはエッチングやイオン注入などのウェーハ処理プロセスは、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。 Semicorex は、優れた耐熱性と耐久性のある耐薬品性を備えた高純度の炭化ケイ素 (SiC) 構造を提供し、均一な熱均一性により一貫したエピ層の厚さと抵抗を実現します。
チャンバー蓋 →
結晶成長やウェーハ取り扱い処理に使用されるチャンバー蓋は、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。
カンチレバーパドル →
カンチレバー パドルは、半導体製造プロセス、特に拡散や RTP などのプロセス中の拡散炉や LPCVD 炉で使用される重要なコンポーネントです。
プロセスチューブ →
プロセス チューブは、RTP、拡散などのさまざまな半導体処理アプリケーションで特別に設計された重要なコンポーネントです。
ウエハーボート →
Wafer Boat は半導体処理に使用され、製造の重要な段階でデリケートなウェハーが安全に保たれるように細心の注意を払って設計されています。
インレットリング →
MOCVD装置によるSiCコーティングガス入口リング 化合物成長により耐熱性、耐食性が高く、極限環境下でも安定性が優れています。
フォーカスリング →
Semicorex が提供する炭化ケイ素コーティングされたフォーカス リングは、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に対して非常に安定しています。
ウエハチャック →
Semicorex の超平面セラミック真空ウエハ チャックは、ウエハ ハンドリング プロセスで使用される高純度 SiC コーティングが施されています。
Semicorex では、アルミナ (Al2O3)、窒化ケイ素 (Si3N4)、窒化アルミニウム (AIN)、ジルコニア (ZrO2)、複合セラミックなどのセラミック製品も取り揃えています。
極端な温度用途向けに特別に設計されたホットプレス窒化ホウ素るつぼは、金属の溶解および蒸発プロセスと半導体結晶成長プロセスの両方に優れたソリューションとして機能する不可欠なセラミック容器です。
続きを読むお問い合わせを送信高性能炭化ケイ素セラミックで作られた炭化ケイ素冷却ダクトは、高温工業用窯の冷却プロセスに使用される高性能パイプ部品です。一貫した品質、コスト効率の高い価格、冷却効率の最大化を保証する精密設計の炭化ケイ素冷却ダクトについては、Semicorex をお選びください。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex カーボン セラミック ブレーキは、高温の作業環境に非常に適した先進的な材料である先進的なカーボン セラミック複合材料で作られています。セミコレックスは、用途やお客様のご要望に応じてカスタマイズした製品をお届けします。*
続きを読むお問い合わせを送信炭化ケイ素ICPエッチングプレートは、高純度焼結炭化ケイ素セラミックスで製造されたウェーハホルダーに欠かせないものです。 Semicorex によって特別に設計されたこの製品は、最先端の半導体産業における誘導結合プラズマ (ICP) エッチングおよび堆積システムの重要な実現要因として機能します。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の窒化アルミニウムるつぼは、半導体グレードの AlN セラミックで製造されており、厳しい高温環境に適用される高性能反応容器です。 Semicorex は、顧客の要件に応じてカスタマイズされた生産を提供し、大規模な注文と小ロットの試作ニーズの両方に対応します。
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