フォーカス リングまたはエッジ リングは、ウェーハ エッジまたは周辺のエッチングの均一性を向上させるように設計されています。
Semicorex フォーカス リングは、化学蒸着 (CVD) を使用してコーティングされたシリコン カーバイドであり、優れた耐熱性、一貫したエピ層の厚さと抵抗のための均一な熱均一性、およびプラズマ エッチングまたはドライ エッチング プロセスの極端な環境に耐えるように構築された耐久性のある耐薬品性を提供します。 .
Semicorex の半導体処理用耐久性フォーカス リングは、半導体処理で使用されるプラズマ エッチング チャンバーの過酷な環境に耐えるように設計されています。当社のフォーカスリングは、高密度で耐摩耗性の炭化ケイ素 (SiC) コーティングでコーティングされた高純度グラファイトでできています。 SiCコーティングは耐食性、耐熱性に優れ、熱伝導性にも優れています。フォーカス リングの耐用年数を向上させるために、化学気相成長 (CVD) プロセスを使用して SiC をグラファイト上に薄層で適用します。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex プラズマ処理フォーカス リングは、半導体産業におけるプラズマ エッチング処理の高い要求を満たすように特別に設計されています。当社の先進的で高純度の炭化ケイ素コーティング コンポーネントは、過酷な環境に耐えるように構築されており、炭化ケイ素層やエピタキシー半導体を含むさまざまなアプリケーションでの使用に適しています。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の高度な高純度 SiC フォーカス リングは、プラズマ エッチング (またはドライ エッチング) チャンバー内の過酷な環境に耐えるように構築されています。当社は、炭化ケイ素層やエピタキシー半導体などの半導体産業に焦点を当てています。当社の製品は優れた価格優位性を持ち、ヨーロッパとアメリカの市場の多くをカバーしています。中国での長期的なパートナーになることを楽しみにしています。
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