TaC コーティング グラファイトは、独自の化学蒸着 (CVD) プロセスにより、高純度グラファイト基板の表面を炭化タンタルの微細層でコーティングすることによって作成されます。
炭化タンタル (TaC) は、タンタルと炭素からなる化合物です。金属的な導電性と非常に高い融点を備えており、その強度、硬度、耐熱性と耐摩耗性で知られる耐火セラミック材料です。炭化タンタルの融点は、純度に応じて約 3880°C でピークに達し、二元化合物の中で最も高い融点の 1 つです。このため、高温要求が MOCVD や LPE などの化合物半導体エピタキシャル プロセスで使用される性能能力を超える場合に、魅力的な代替手段となります。
Semicorex TaCコーティングの材料データ
プロジェクト |
パラメータ |
密度 |
14.3 (gm/cm3) |
放射率 |
0.3 |
CTE (×10-6/K) |
6.3 |
硬度(HK) |
2000 |
抵抗 (オーム-cm) |
1×10-5 |
熱安定性 |
<2500℃ |
グラファイトの寸法変化 |
-10~-20um(参考値) |
コーティングの厚さ |
≧20um代表値(35um±10um) |
|
|
上記は代表的な値です |
|
Semicorex CVD TACコーティングリングは、正確なガス制御と熱安定性を確保するために、結晶成長炉で使用される高性能フローガイドコンポーネントです。 Semicorexは、最も要求の厳しい半導体環境で、比類のない品質、エンジニアリングの専門知識、および実績のあるパフォーマンスを提供します。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex CVDコーティングウェーハホルダーは、半導体エピタキシープロセスで精度と耐久性のために設計された炭化物コーティングを備えた高性能コンポーネントです。生産効率を高め、すべてのアプリケーションで優れた品質を確保する信頼できる高度なソリューションについては、Semicorexを選択してください。*
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex TACコーティング半月部品は、LPEエピタキシー炉内のSICエピタキシープロセスで使用するために設計された高性能コンポーネントです。比類のない品質、精密エンジニアリング、および半導体製造の卓越性を高めるためのコミットメントについては、セミコレックスを選択してください。*
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex LPE 用ハーフムーン パーツは、LPE リアクターで使用するために設計された TaC コーティングされたグラファイト コンポーネントであり、SiC エピタキシー プロセスで重要な役割を果たします。要求の厳しい半導体製造環境において最適なパフォーマンスと信頼性を保証する高品質で耐久性のあるコンポーネントのセミコレックスをお選びください。*
続きを読むお問い合わせを送信