TaC コーティング グラファイトは、独自の化学蒸着 (CVD) プロセスにより、高純度グラファイト基板の表面を炭化タンタルの微細層でコーティングすることによって作成されます。
炭化タンタル (TaC) は、タンタルと炭素からなる化合物です。金属的な導電性と非常に高い融点を備えており、その強度、硬度、耐熱性と耐摩耗性で知られる耐火セラミック材料です。炭化タンタルの融点は、純度に応じて約 3880°C でピークに達し、二元化合物の中で最も高い融点の 1 つです。このため、高温要求が MOCVD や LPE などの化合物半導体エピタキシャル プロセスで使用される性能能力を超える場合に、魅力的な代替手段となります。
Semicorex TaCコーティングの材料データ
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プロジェクト |
パラメータ |
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密度 |
14.3 (gm/cm3) |
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放射率 |
0.3 |
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CTE (×10-6/K) |
6.3 |
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硬度(HK) |
2000 |
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抵抗 (オーム-cm) |
1×10-5 |
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熱安定性 |
<2500℃ |
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グラファイトの寸法変化 |
-10~-20um(参考値) |
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コーティングの厚さ |
≧20um代表値(35um±10um) |
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上記は代表的な値です |
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Semicorex エピタキシャル成長用 TaC コーティング部品は、半導体のエピタキシャルプロセスの空気取り入れ口に位置する貴重な機械加工部品です。セミコレックスは、中国におけるCVD TaCコーティング技術に特化し、世界中に製品を輸出している一流企業です*。
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