TaC コーティング グラファイトは、独自の化学蒸着 (CVD) プロセスにより、高純度グラファイト基板の表面を炭化タンタルの微細層でコーティングすることによって作成されます。
炭化タンタル (TaC) は、タンタルと炭素からなる化合物です。金属的な導電性と非常に高い融点を備えており、その強度、硬度、耐熱性と耐摩耗性で知られる耐火セラミック材料です。炭化タンタルの融点は、純度に応じて約 3880°C でピークに達し、二元化合物の中で最も高い融点の 1 つです。このため、高温要求が MOCVD や LPE などの化合物半導体エピタキシャル プロセスで使用される性能能力を超える場合に、魅力的な代替手段となります。
Semicorex TaCコーティングの材料データ
プロジェクト |
パラメータ |
密度 |
14.3 (gm/cm3) |
放射率 |
0.3 |
CTE (×10-6/K) |
6.3 |
硬度(HK) |
2000 |
抵抗 (オーム-cm) |
1×10-5 |
熱安定性 |
<2500℃ |
グラファイトの寸法変化 |
-10~-20um(参考値) |
コーティングの厚さ |
≧20um代表値(35um±10um) |
|
|
上記は代表的な値です |
|
Semicorex TaC コーティング ウェーハ トレイは、次のような課題に耐えられるように設計されている必要があります。 高温や化学反応性の環境など、反応チャンバー内の極端な条件。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex TaC コーティング プレートは、要求の厳しいエピタキシャル成長プロセスやさらなる半導体製造環境向けの高性能コンポーネントとして際立っています。その一連の優れた特性により、最終的に高度な半導体製造プロセスの生産性とコスト効率を向上させることができます。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon は、エピタキシーの世界において不可欠な資産であり、高温、反応性ガス、および厳しい純度要件によってもたらされる課題に対する堅牢なソリューションを提供します。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex CVD TaC コーティング カバーは、高温、反応性ガス、厳しい純度要件を特徴とするエピタキシー リアクター内の厳しい環境を実現する重要な技術となっており、安定した結晶成長を確保し、望ましくない反応を防ぐための堅牢な材料が必要です。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex TaC コーティング ガイド リングは、有機金属化学気相成長 (MOCVD) 装置内の重要な部品として機能し、エピタキシャル成長プロセス中に前駆体ガスの正確かつ安定した供給を保証します。 TaC コーティング ガイド リングは、MOCVD リアクター チャンバー内の極端な条件に耐えるのに理想的な一連の特性を備えています。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex TaC コーティング ウェーハ チャックは、半導体製造の重要な段階である半導体エピタキシー プロセスにおける革新の頂点に立っています。最高品質の製品を競争力のある価格で提供するという当社の取り組みにより、当社は中国における長期的なパートナーとなる準備ができています。*
続きを読むお問い合わせを送信