エピタキシャル成長における TaC コーティング部品

Semicorex エピタキシャル成長用 TaC コーティング部品は、半導体のエピタキシャルプロセスの空気取り入れ口に位置する貴重な機械加工部品です。セミコレックスは、中国におけるCVD TaCコーティング技術に特化し、世界中に製品を輸出している一流企業です*。

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製品説明

セミコレックスのエピタキシャル成長用TaCコーティング部品は角筒状の部品であり、主にCVD炉内での空気吸入の進行に関与する部品です。必須部品であるため、高温、腐食性ガスなど厳しい環境にさらされます。これは、TaC コーティングされたグラファイトを選択する理由を明らかにします。

の利点炭化タンタル (TaC) コーティング

炭化タンタル (TaC) コーティングは、化学蒸着 (CVD) 炉内のような過酷な条件で使用するように設計された吸気システムの最も重要な部品の一部に必要です。 CVD 炉内は高温であり、腐食性ガスにさらされるため、非常に困難な作業環境が生じます。優れた化学的不活性性を提供し、耐腐食性と耐劣化性を備えているため、エピタキシャル成長においてエアインテーク TaC コーティング部品に TaC コーティングを使用すると、欠陥粒子が発生する可能性が大幅に減少するため、部品の寿命が延び、収集された上皮フィルムの収量と品質が最高になります。

優れたコーティング技術

Semicorex は高度な CVD 技術を使用して製造していますエピタキシャル成長における TaC コーティングされたコンポーネントパフォーマンスと品質の両方に関して今日の最も要求の厳しい業界基準を満たします。 Semicorex が TaC コーティングを製造する精度は、製造されるコーティングの高品質からも明らかです。

特徴	セミコレックスのアドバンテージ	顧客への影響
優れた密着性	最適化された堆積プロセスにより、TaC 層とグラファイト基板の間に強力で均一な化学結合が形成されます。	熱サイクル下でも剥離や剥離がなく、長期信頼性を確保します。
表面均一性	角形チューブのすべての内面および外面にわたるコーティングの厚さと均一性を正確に制御します。	一貫した流れのダイナミクスと熱性能は、再現性のある吸気にとって不可欠です。
高いコーティング純度	当社は高純度の前駆体と細心の注意を払ったプロセスを使用して、非常にクリーンな TaC 層を実現します。	成長したエピタキシャル膜の品質に影響を与える可能性のある微量金属や不純物の汚染を最小限に抑えます。

最適化された基材の選択

コーティングされた部品の性能は、基本的にその基材の品質に関係します。 Semicorex の TaC コーティング角管に最適なグラファイト基材の選択は、当社のエンジニアリングチームによって、次のような重要な基準に従って慎重に行われます。

当社では、TaC コーティングとグラファイト基材の間で最も強力な結合を実現するために、その物理的特性に基づいてグラファイトのグレードを選択します。これにより、グラファイト基材に対する TaC コーティングの接着力が最大限に高まります。

TaC コーティングされた角管の製造に使用されるグラファイトは、高温 CVD プロセス中のガス放出や汚染の可能性を最小限に抑えるために、非常に高純度である必要があります。

当社の厳格な調達および品質管理プロセスにより、使用するグラファイト基板のすべてのバッチが同じ材料特性を持つことが保証されます。これにより、常に同じ性能特性を備えた TaC コーティングされた角管を製造することができます。

実証済みの信頼性とパートナーシップ

当社のエピタキシャル成長における TaC コーティングされたコンポーネントは、半導体業界で最大手で最も評判の高いメーカーの多くによって広範囲にテストされ、承認されています。これらのメーカーは、エピタキシャル成長の重要な用途で使用するための信頼できる標準として Semicorex 製品を確立しました。

当社は、コンポーネントの供給が生産プロセスの重要な要素であることを認識しています。そのため、セミコレックスは、高品質で信頼性の高い製品供給を提供し、お客様のビジネスをスムーズかつ中断なく進めるための物流と販売後のサポートを提供することに優れ、長期的なパートナーとなることを約束しています。