中国 特殊グラファイト メーカー、サプライヤー、工場

特殊グラファイトは、処理された一種の人工グラファイトです。これは、結晶の成長、イオン移植、エピタキシーなど、半導体および太陽の製造プロセスのすべての面で不可欠な重要な材料です。

1。炭化シリコン（sic）結晶の成長

第3世代の半導体材料としてのシリコン炭化物は、新しいエネルギー車、5G通信、およびその他の分野で広く使用されています。 6インチおよび8インチのSICクリスタル成長プロセスでは、等張りのグラファイトが主に次の主要なコンポーネントを製造するために使用されます。

グラファイトるつぼ：これは、SIC粉末原料を合成し、高温での結晶の成長を支援するために使用できます。その高い純度、高温耐性、および熱衝撃耐性により、安定した結晶成長環境が保証されます。

グラファイトヒーター：これにより、均一な熱分布が提供され、高品質のSICクリスタルの成長が確保されます。

断熱チューブ：これにより、結晶成長炉内の温度均一性が維持され、熱損失が減少します。

2。イオン着床

イオン移植は、半導体製造における重要なプロセスです。アイソスタティックグラファイトは、主にイオンインプランタンで次のコンポーネントを製造するために使用されます。

グラファイトゲッター：これにより、イオンビーム内の不純物イオンが吸収され、イオン純度が確保されます。

グラファイトフォーカスリング：これにより、イオンビームが集中し、イオンインプラントの精度と効率が向上します。グラファイト基板トレイ：シリコンウェーハをサポートし、イオン移植中の安定性と一貫性を維持するために使用されます。

3。エピタキシープロセス

エピタキシープロセスは、半導体デバイスの製造における重要なステップです。アイソスタクチャグラファイトは、主にエピタキシー炉で次のコンポーネントを製造するために使用されます。

グラファイトトレイと受容器：シリコンウェーハをサポートするために使用され、エピタキシープロセス中に安定したサポートと均一な熱伝導を提供します。

4.その他の半導体製造アプリケーション

等帯に押されたグラファイトは、次の半導体製造アプリケーションでも広く使用されています。

エッチングプロセス：エッチャー用のグラファイト電極と保護成分の製造に使用します。その腐食抵抗と高純度は、エッチングプロセスの安定性と精度を保証します。

化学蒸気堆積（CVD）：CVD炉内のグラファイトトレイとヒーターの製造に使用します。その高い熱伝導率と高温抵抗は、均一な薄膜堆積を保証します。

包装テスト：テスト備品とキャリアトレイの製造に使用されます。その高精度と低汚染は、正確なテスト結果を保証します。

グラファイト部品の利点

高い純度：

非常に低い不純物含有量を備えた高純度の等骨圧力グラファイト材料を使用して、半導体製造の厳しい材料純度要件を満たしています。同社自身の浄化炉は、グラファイトを5ppm未満に浄化することができます。

高精度：

高度な処理装置と成熟した処理技術により、製品の寸法精度とフォームと位置の許容度がミクロンレベルに達することが保証されます。

高性能：

この製品は、優れた高温抵抗、腐食抵抗、放射抵抗、高熱伝導率、およびその他の特性を持ち、半導体製造のさまざまな過酷な労働条件を満たしています。

カスタマイズされたサービス：

カスタマイズされた製品設計および処理サービスは、さまざまなアプリケーションシナリオのニーズを満たすために顧客のニーズに応じて提供できます。

グラファイト製品の種類

（1）アイソスタティックグラファイト
アイソスタティックグラファイト製品は、寒冷等積分のプレスによって生成されます。他の形成方法と比較して、このプロセスによって生成されるるつぼは優れた安定性を持っています。 SIC単結晶に必要なグラファイト製品のサイズはすべて大きく、グラファイト製品の表面および内部で不均一な純度につながり、使用要件を満たすことができません。 SIC単結晶に必要な大規模なグラファイト製品の深い精製要件を満たすには、製品表面とコアの純度が使用要件を満たすことができるように、ユニークな高温化学パルス精製プロセスを採用するために採用する必要があります。

（2）多孔質グラファイト
多孔質グラファイトは、多孔性と低密度のグラファイトの一種です。 SIC結晶成長プロセスでは、多孔質グラファイトは、物質移動の均一性を改善し、相変化の発生速度を減らし、結晶の形状を改善する上で重要な役割を果たします。
多孔質グラファイトを使用すると、原料領域の温度と温度の均一性が向上し、るつぼの軸方向温度差が増加し、原材料表面の再結晶を弱めることにも特定の効果があります。成長チャンバーでは、多孔質グラファイトは成長プロセス全体の材料の流れの安定性を改善し、成長領域のC/SI比を増加させ、相変化の確率を低下させ、同時に、多孔質グラファイトも結晶界面の改善に役割を果たします。

（3）フェルト
ソフトフェルトとハードフェルトは、SIC結晶の成長とエピタキシャルリンクにおける重要な熱断熱材の役割を果たします。

（4）グラファイトホイル
グラファイトペーパーは、化学処理と高温ローリングを通じて高炭素フレークグラファイトから作られた機能的な材料です。熱伝導率、電気伝導率、柔軟性、耐食性が高い。

（5）複合材料
炭素炭素熱場は、太陽光発電の単結晶炉生産の中核消耗品の1つです。

セミコレックス生産

Semicorexは、小型バッチのカスタマイズされた生産方法を備えたグラファイトを作成します。小型バッチの生産により、製品の制御可能になります。プロセス全体がプログラマブルロジックコントローラー（PLC）によって制御され、詳細なプロセスデータが記録され、完全なライフサイクルトレーサビリティが可能になりました。

焙煎プロセス全体で、さまざまな場所で抵抗率で達成され、温度制御が維持されました。これにより、グラファイト材料の均一性と信頼性が保証されます。

Semicorexは、他のサプライヤーとは異なる完全な等等型プレステクノロジーを利用しています。これは、グラファイトが超均一であり、エピタキシャルプロセスで特に重要であることが証明されています。密度、抵抗率、硬度、曲げ強度、さまざまなサンプルの強度など、包括的な材料の均一性テストが実施されました。