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高気孔率の極薄グラファイト

高気孔率の極薄グラファイト

Semicorex の高気孔率超薄グラファイトは主に半導体産業、特に優れた表面接着力、優れた耐熱性、高い気孔率、優れた機械加工性を備えた極薄厚さを特徴とする単結晶成長プロセスで使用されます。私たちセミコレックスは、品質とコスト効率を融合した、多孔度の高い高性能極薄グラファイトの製造と供給に専念しています。 **

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高純度炭素粉末

高純度炭素粉末

Semicorex 高純度炭素粉末は、高純度炭化ケイ素 (SiC) 粉末やその他の固体炭化物材料の合成における重要な前駆体として機能します。半導体、エレクトロニクス、セラミックス産業の高度な用途に必要な純度と品質を保証します。 私たちセミコレックスは、品質とコスト効率を融合した高性能高純度炭素粉末の製造と供給に注力しています。**

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イオン注入部品

イオン注入部品

高純度グラファイト部品で作られた Semicorex イオン注入部品は、特にイオン注入装置での使用向けに、半導体製造の厳しい要求を満たすように設計されています。これらのコンポーネントには、高性能アプリケーションに最適ないくつかの重要な利点があります。私たちセミコレックスは、高性能イオン注入部品の製造・供給を専門としています。 品質とコスト効率を融合させます。

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結晶成長用るつぼ

結晶成長用るつぼ

セミコレックスの結晶成長用坩堝は、半導体デバイス製造の基本である単結晶成長の制御を実現するために不可欠です。これらのるつぼは、半導体部門の厳しい基準を満たすように細心の注意を払って設計されており、あらゆる用途にわたって最高のパフォーマンスと効率を保証します。私たちセミコレックスは、品質とコスト効率を融合した高性能結晶成長るつぼの製造と供給に専念しています。

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溶けるための等造積グラファイトのるつぼ

溶けるための等造積グラファイトのるつぼ

Semicorex 溶融用等方性グラファイトるつぼは、材料密度と機械的特性を向上させる等方性プレス技術を使用して製造されています。これにより、半導体プロセスに特有の極端な温度や腐食環境に耐えるだけでなく、長期にわたる耐久性も備えた容器が実現しました。るつぼの堅牢性により、繰り返しの熱サイクルに劣化することなく対処できるため、長期間の稼働期間にわたって一貫したパフォーマンスが得られます。私たちセミコレックスは、品質とコスト効率を融合した、溶解用の高性能等方性グラファイトるつぼの製造と供給に専念しています。

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サファイア結晶成長絶縁体

サファイア結晶成長絶縁体

Semicorex サファイア結晶成長絶縁体は、サファイア単結晶炉の運転に不可欠な役割を果たし、結晶成長プロセス全体を通じて重要な機能の先頭に立ちます。これらのコンポーネントは、安定した炉温度を維持することにより、エネルギー損失を大幅に削減し、成長する結晶の品質を向上させます。私たちセミコレックスは、品質とコスト効率を融合した高性能サファイア結晶成長絶縁体の製造と供給に専念しています。

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Semicorex は 特殊グラファイト を長年生産しており、中国のプロの 特殊グラファイト メーカーおよびサプライヤーの 1 つです。バルク梱包を提供する高度で耐久性のある製品を購入すると、迅速な配達で大量の製品を保証します。長年にわたり、お客様にカスタマイズされたサービスを提供してきました。お客様は当社の製品と優れたサービスに満足しています。私たちはあなたの信頼できる長期的なビジネスパートナーになることを心から楽しみにしています!私たちの工場から製品を購入することを歓迎します。
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