バレルサセプタは、LPE、MOCVD などのさまざまな半導体製造プロセスで使用される重要なコンポーネントです。 Semicorex は、化学気相成長 (CVD) プロセスを使用してグラファイト上に高純度の炭化ケイ素を薄層で塗布します。温度プロセス。
â 高純度SiCコーティンググラファイト
・耐熱性、耐薬品性に優れる
â 高い熱均一性
â 優れた耐摩耗性
Semicorex CVD SiC コーティング バレル サセプタは、高度な半導体製造プロセス、特にエピタキシーに合わせて細心の注意を払って設計されたコンポーネントです。当社の製品は価格面で優れており、ヨーロッパおよびアメリカ市場のほとんどをカバーしています。私たちは、お客様の中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex バレル サセプタ シリコン カーバイド コーティング グラファイトは、エピタキシー プロセス、特にウェーハの搬送で使用するために設計された特殊なコンポーネントです。半導体ウェーハ処理のニーズにどのように対応できるかについて詳しく知りたい場合は、今すぐお問い合わせください。
続きを読むお問い合わせを送信LPE エピタキシャル成長用の Semicorex SiC コーティング バレル サセプタは、長期間にわたって一貫した信頼性の高い性能を提供するように設計された高性能製品です。その均一な熱プロファイル、層状のガス フロー パターン、および汚染の防止により、ウェーハ チップ上に高品質のエピタキシャル層を成長させるのに理想的な選択肢となります。そのカスタマイズ性と費用対効果により、市場で非常に競争力のある製品になっています。
続きを読むお問い合わせを送信LPE エピタキシー用の Semicorex バレル サセプター エピ システムは、優れたコーティング密着性、高純度、および高温耐酸化性を提供する高品質の製品です。その均一な熱プロファイル、層流ガス フロー パターン、および汚染の防止により、ウェーハ チップ上のエピタキシャル層の成長に理想的な選択肢となります。その費用対効果とカスタマイズ性により、市場で非常に競争力のある製品になっています。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex 液相エピタキシー (LPE) リアクター システムは、優れた熱性能、均一な熱プロファイル、優れたコーティング密着性を提供する革新的な製品です。その高純度、高温酸化耐性、および耐腐食性により、半導体産業での使用に理想的な選択肢となっています。カスタマイズ可能なオプションと費用対効果により、市場で非常に競争力のある製品になっています。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor は、ウェーハ チップ上にエピタキシャル層を成長させるための耐久性と信頼性の高い製品です。その高温酸化耐性と高純度により、半導体産業での使用に適しています。その均一な熱プロファイル、層流ガス フロー パターン、および汚染の防止により、高品質のエピタキシャル層成長に理想的な選択肢となります。
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