Semicorex バレル サセプタ エピ システムは、優れたコーティング密着性、高純度、耐高温酸化性を備えた高品質の製品です。均一な熱プロファイル、層流ガス流パターン、および汚染防止により、ウェーハチップ上のエピキシャル層の成長には理想的な選択肢となります。コスト効率とカスタマイズ性により、市場での競争力の高い製品となっています。
当社のバレル サセプタ エピ システムは、優れた熱性能、均一な熱プロファイル、および優れたコーティング密着性を提供する非常に革新的な製品です。高純度、耐高温酸化性、耐食性を備え、半導体業界で使用される信頼性の高い製品です。汚染や不純物の防止とメンテナンスの必要性の低さにより、市場での競争力の高い製品となっています。
Semicorex では、高品質でコスト効率の高い製品をお客様に提供することに重点を置いています。当社のバレル サセプタ エピ システムは価格面での優位性があり、多くのヨーロッパおよびアメリカの市場に輸出されています。当社は、一貫した品質の製品と優れた顧客サービスを提供し、お客様の長期的なパートナーとなることを目指しています。
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バレルサセプタエピシステムのパラメータ
CVD-SICコーティングの主な仕様 |
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SiC-CVDの特性 |
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結晶構造 |
FCC βフェーズ |
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密度 |
g/cm3 |
3.21 |
硬度 |
ビッカース硬さ |
2500 |
粒度 |
μm |
2~10 |
化学純度 |
% |
99.99995 |
熱容量 |
J kg-1 K-1 |
640 |
昇華温度 |
℃ |
2700 |
感覚の強さ |
MPa(室温4点) |
415 |
ヤング率 |
Gpa (4pt曲げ、1300℃) |
430 |
熱膨張 (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
熱伝導率 |
(W/mK) |
300 |
バレルサセプタエピシステムの特長
- グラファイト基板と炭化ケイ素層は両方とも良好な密度を備えており、高温および腐食性の作業環境において優れた保護役割を果たします。
- 単結晶成長に使用される炭化ケイ素コーティングされたサセプタは、非常に高い表面平坦性を持っています。
- グラファイト基板と炭化ケイ素層の熱膨張係数の差を低減し、接着強度を効果的に向上させ、亀裂や層間剥離を防ぎます。
・グラファイト基材と炭化ケイ素層はいずれも熱伝導率が高く、熱分布特性に優れています。
- 高融点、高温酸化耐性、耐食性。