Semicorex の標準品質の高純度柔軟グラファイト フォイルおよびシートは、灰分が 10 ppm 未満になるように設計されています。灰分が低いことは、高温用途、特に半導体、太陽光発電、セラミックなどの産業における要求の厳しいプロセスやシステムにとって非常に重要です。
極度の熱と過酷な条件が存在する高温用途では、灰の存在により、汚染、性能の低下、機器やコンポーネントへの潜在的な損傷などの問題が発生する可能性があります。 Semicorex の柔軟なグラファイト フォイルは、低灰分を確保することにより、これらの業界の厳しい要件を満たし、信頼性の高い性能を提供します。
製造工程
グラファイト フォイルは、高純度、高結晶性の天然グラファイト フレークから製造され、特殊な酸と熱処理によって連続フォイルに加工され、膨張黒鉛結晶が生成されます。次に、膨張した黒鉛結晶は、樹脂やバインダーを使用せずにカレンダー加工プロセスを通じて箔に成形されます。
アプリケーション
Semicorex グラファイト箔の優れた特性により、熱処理炉、多結晶シリコン、半導体、太陽光発電、その他のセラミック製造装置の幅広い部品やコンポーネントに適した材料となっています。
●真空炉
●不活性ガス炉
●熱処理(焼き入れ、炭化、ろう付け等)
●石英ガラスの製造
●炭素繊維の製造
●超硬合金の製造
●焼結・ホットプレス用途
● 技術的なセラミック生産、例:ボディーアーマー
●CVD/PVDコーティング
●SiC結晶引き上げ用るつぼ