当社の工場からICPエッチングキャリアを安心してご購入いただけます。最高のアフターサービスとタイムリーな納品を提供します。 Semicorex ウェハサセプタは、化学蒸着 (CVD) プロセスを使用して炭化ケイ素でコーティングされたグラファイトで作られています。この材料は、高温耐性、耐薬品性、優れた耐摩耗性、高い熱伝導率、高い強度と剛性などのユニークな特性を備えています。これらの特性により、誘導結合プラズマ (ICP) エッチング システムなどのさまざまな高温用途にとって魅力的な材料となっています。
当社はカスタマイズされたサービスを提供し、寿命の長いコンポーネントの革新、サイクルタイムの短縮、歩留まりの向上を支援します。
Semicorex SiC ICP エッチング ディスクは単なるコンポーネントではありません。半導体業界が小型化と性能の絶え間ない追求を続ける中、SiC は最先端の半導体製造を可能にする重要な要素であり、SiC のような先端材料の需要は高まる一方です。テクノロジー主導の世界を推進するために必要な精度、信頼性、パフォーマンスを保証します。セミコレックスは、品質とコスト効率を融合した高性能 SiC ICP エッチング ディスクの製造と供給に専念しています。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex ICP エッチング用 SiC サセプタは、高水準の品質と一貫性を維持することに重点を置いて製造されています。これらのサセプタの作成に使用される堅牢な製造プロセスにより、各バッチが厳しい性能基準を満たしていることが保証され、半導体エッチングにおいて信頼性の高い一貫した結果が得られます。さらに、Semicorex は、半導体業界の急速な納期要求に対応し、品質を損なうことなく生産スケジュールを確実に守るために重要な短納期スケジュールを提供する設備を備えています。私たち Semicorex は、高性能の製品の製造と供給に専念しています。品質とコスト効率を融合したICPエッチング用SiCサセプター**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の SiC コーティング ICP コンポーネントは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハ ハンドリング プロセス向けに特別に設計されています。微細な SiC 結晶コーティングを施した当社のキャリアは、優れた耐熱性、均一な熱均一性、耐久性のある耐薬品性を備えています。
続きを読むお問い合わせを送信エピタキシーや MOCVD などのウェーハ ハンドリング プロセスに関しては、Semicorex のプラズマ エッチング チャンバー用高温 SiC コーティングが第一の選択肢です。当社のキャリアは、微細な SiC 結晶コーティングにより、優れた耐熱性、均一な熱均一性、耐久性のある耐薬品性を備えています。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の ICP プラズマ エッチング トレイは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハ ハンドリング プロセス向けに特別に設計されています。当社のキャリアは、最大 1600°C までの安定した高温酸化耐性を備えており、均一な熱プロファイル、層流ガス フロー パターンを提供し、汚染や不純物の拡散を防ぎます。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の ICP プラズマ エッチング システム用 SiC コーティング キャリアは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハ ハンドリング プロセスにとって信頼性が高くコスト効率の高いソリューションです。当社のキャリアは、優れた耐熱性、均一な熱均一性、耐久性のある耐薬品性を提供する微細な SiC 結晶コーティングを備えています。
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