当社は専門メーカーとして、SiCエピタキシーを提供したいと考えています。そして、最高のアフターサービスとタイムリーな配達を提供します。 Semicorex は、ウェーハをサポートするために使用される CVD 炭化ケイ素コーティングされたグラファイト サセプタを供給しています。 高純度の炭化ケイ素 (SiC) でコーティングされたグラファイト構造は、優れた耐熱性、一貫したエピ層の厚さと抵抗を実現する均一な熱均一性、および耐久性のある耐薬品性を提供します。微細な SiC 結晶コーティングは、きれいで滑らかな表面を提供します。これは、新品のウェーハがその領域全体の多くの点でサセプタと接触するため、取り扱いにとって重要です。
Semicorex LPE ハーフムーン反応チャンバーは、SiC エピタキシーの効率的かつ信頼性の高い操作に不可欠であり、メンテナンスコストを削減し、操作効率を向上させながら高品質のエピタキシャル層の生産を保証します。 **
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex Aixtron G5 用 6 インチ ウェーハ キャリアは、Aixtron G5 装置、特に高温および高精度の半導体製造プロセスでの使用に多くの利点をもたらします。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex エピタキシー ウェーハ キャリアは、エピタキシー アプリケーションに信頼性の高いソリューションを提供します。高度な材料とコーティング技術により、これらのキャリアは優れた性能を発揮し、メンテナンスや交換に伴う運用コストとダウンタイムを削減します。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex は、エピタキシー、有機金属化学蒸着 (MOCVD)、および高速熱処理 (RTP) 装置の性能を向上させるように設計された SiC ディスク サセプターを発表します。細心の注意を払って設計された SiC ディスク サセプターは、高温および真空環境において優れた性能、耐久性、効率を保証する特性を備えています。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex SiC ALD サセプタは、高温安定性、膜の均一性と品質の向上、プロセス効率の向上、サセプタ寿命の延長など、ALD プロセスに多くの利点をもたらします。これらの利点により、SiC ALD サセプタは、要求の厳しいさまざまな用途で高性能薄膜を実現するための貴重なツールとなります。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex ALD プラネタリー サセプタは、過酷な処理条件に耐えることができるため、ALD 装置において重要であり、さまざまな用途で高品質の成膜を保証します。より小型で性能が向上した最先端の半導体デバイスの需要が高まるにつれ、ALD における ALD プラネタリー サセプターの使用はさらに拡大すると予想されます。**
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