Semicorex Aixtron G5 用 6 インチ ウェーハ キャリアは、Aixtron G5 装置、特に高温および高精度の半導体製造プロセスでの使用に多くの利点をもたらします。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex エピタキシー ウェーハ キャリアは、エピタキシー アプリケーションに信頼性の高いソリューションを提供します。高度な材料とコーティング技術により、これらのキャリアは優れた性能を発揮し、メンテナンスや交換に伴う運用コストとダウンタイムを削減します。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex は、エピタキシー、有機金属化学蒸着 (MOCVD)、および高速熱処理 (RTP) 装置の性能を向上させるように設計された SiC ディスク サセプターを発表します。細心の注意を払って設計された SiC ディスク サセプターは、高温および真空環境において優れた性能、耐久性、効率を保証する特性を備えています。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex SiC ALD サセプタは、高温安定性、膜の均一性と品質の向上、プロセス効率の向上、サセプタ寿命の延長など、ALD プロセスに多くの利点をもたらします。これらの利点により、SiC ALD サセプタは、要求の厳しいさまざまな用途で高性能薄膜を実現するための貴重なツールとなります。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex ALD プラネタリー サセプタは、過酷な処理条件に耐えることができるため、ALD 装置において重要であり、さまざまな用途で高品質の成膜を保証します。より小型で性能が向上した最先端の半導体デバイスの需要が高まるにつれ、ALD における ALD プラネタリー サセプターの使用はさらに拡大すると予想されます。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex MOCVD エピタキシー サセプタは、有機金属化学気相成長 (MOCVD) エピタキシーの重要なコンポーネントとして登場し、優れた効率と精度での高性能半導体デバイスの製造を可能にします。材料特性のユニークな組み合わせにより、化合物半導体のエピタキシャル成長中に遭遇する厳しい熱的および化学的環境に完全に適しています。**
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