当社は専門メーカーとして、SiCエピタキシーを提供したいと考えています。そして、最高のアフターサービスとタイムリーな配達を提供します。 Semicorex は、ウェーハをサポートするために使用される CVD 炭化ケイ素コーティングされたグラファイト サセプタを供給しています。 高純度の炭化ケイ素 (SiC) でコーティングされたグラファイト構造は、優れた耐熱性、一貫したエピ層の厚さと抵抗を実現する均一な熱均一性、および耐久性のある耐薬品性を提供します。微細な SiC 結晶コーティングは、きれいで滑らかな表面を提供します。これは、新品のウェーハがその領域全体の多くの点でサセプタと接触するため、取り扱いにとって重要です。
Semicorex は、エピタキシー、有機金属化学蒸着 (MOCVD)、および高速熱処理 (RTP) 装置の性能を向上させるように設計された SiC ディスク サセプターを発表します。細心の注意を払って設計された SiC ディスク サセプターは、高温および真空環境において優れた性能、耐久性、効率を保証する特性を備えています。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex SiC ALD サセプタは、高温安定性、膜の均一性と品質の向上、プロセス効率の向上、サセプタ寿命の延長など、ALD プロセスに多くの利点をもたらします。これらの利点により、SiC ALD サセプタは、要求の厳しいさまざまな用途で高性能薄膜を実現するための貴重なツールとなります。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex ALD プラネタリー サセプタは、過酷な処理条件に耐えることができるため、ALD 装置において重要であり、さまざまな用途で高品質の成膜を保証します。より小型で性能が向上した最先端の半導体デバイスの需要が高まるにつれ、ALD における ALD プラネタリー サセプターの使用はさらに拡大すると予想されます。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex MOCVD エピタキシー サセプタは、有機金属化学気相成長 (MOCVD) エピタキシーの重要なコンポーネントとして登場し、優れた効率と精度での高性能半導体デバイスの製造を可能にします。材料特性のユニークな組み合わせにより、化合物半導体のエピタキシャル成長中に遭遇する厳しい熱的および化学的環境に完全に適しています。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex SiC マルチポケット サセプタは、高品質の半導体ウェーハのエピタキシャル成長を実現する重要な技術です。高度な化学蒸着 (CVD) プロセスを通じて製造されたこれらのサセプターは、優れたエピタキシャル層の均一性とプロセス効率を達成するための堅牢で高性能のプラットフォームを提供します。**
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex SiC コーティング エピタキシー ディスクには幅広い特性があり、ハイテク半導体デバイスの成功には装置の精度、耐久性、堅牢性が最も重要である半導体製造において不可欠なコンポーネントとなっています。私たちセミコレックスは、品質とコスト効率を融合した高性能 SiC コーティング エピタキシー ディスクの製造と供給に専念しています。**
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