Semicorex RTP キャリアは、化学蒸着 (CVD) プロセスを使用してコーティングされた炭化ケイ素であり、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に対して非常に安定しています。半導体プロセスの中核であるエピタキシーサセプタは、最初に堆積環境にさらされるため、高い耐熱性と耐腐食性を備えています。また、SiC コーティングを施したキャリアは熱伝導率が高く、熱分布特性にも優れています。
●高純度SiCコーティンググラファイト
●耐熱性、耐薬品性に優れています。
●高い均熱性
●耐摩耗性に優れています。
Semicorex SiC コーティング グラファイト プレートは、SiC および GaN エピタキシーの厳しい要求に合わせて特別に設計された高純度キャリアであり、静水圧グラファイト基板上の高密度 CVD 炭化ケイ素コーティングを利用して、高歩留りウェーハ処理に安定した化学的に不活性な熱バリアを提供します。 Semicorex は世界中の顧客に適格な製品とサービスを提供します。*
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex RTP SICコーティングプレートは、迅速な熱加工環境に使用するために設計された高性能ウェーハキャリアです。大手半導体メーカーから信頼されているSemicorexは、厳密な品質基準と精密製造に支えられた優れた熱安定性、耐久性、および汚染制御を提供します。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の RTP グラファイト キャリア プレートは、エピタキシャル成長やウェーハ ハンドリング処理などの半導体ウェーハ処理アプリケーションに最適なソリューションです。当社の製品は、優れた耐熱性と熱均一性を提供するように設計されており、エピタキササセプタが成膜環境にさらされても高い耐熱性と耐食性を備えています。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex RTP SiC コーティング キャリアは、優れた耐熱性と熱均一性を備え、半導体ウェーハ処理用途に最適なソリューションです。高品質の SiC コーティングされたグラファイトを備えたこの製品は、エピタキシャル成長のための最も過酷な堆積環境に耐えるように設計されています。高い熱伝導率と優れた熱分布特性により、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄において信頼性の高いパフォーマンスが保証されます。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex RTP/RTA SiC コーティング キャリアは、成膜環境の最も厳しい条件に耐えるように設計されています。高い耐熱性と耐腐食性を備えたこの製品は、エピタキシャル成長に最適な性能を発揮するように設計されています。 SiC コーティングされたキャリアは、高い熱伝導率と優れた熱分散特性を備えており、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に対して信頼性の高いパフォーマンスを保証します。
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