私たちは専門メーカーとして、半導体部品を提供したいと考えています。 Semicorex は、半導体プロセスを改善するためのパートナーです。当社の炭化ケイ素コーティングは緻密で、高温、耐薬品性に優れており、半導体ウエハおよびウエハ処理、半導体製造を含む半導体製造のサイクル全体でよく使用されます。
高純度の SiC コーティングされたコンポーネントは、半導体プロセスにとって極めて重要です。当社の製品は、結晶成長ホットゾーン用のグラファイト消耗品 (ヒーター、るつぼサセプタ、断熱材) から、エピタキシーまたは MOCVD 用の炭化ケイ素でコーティングされたグラファイト サセプタなどのウェーハ処理装置用の高精度グラファイト コンポーネントまで多岐にわたります。
半導体プロセスの利点
エピタキシーや MOCVD などの薄膜堆積段階、またはエッチングやイオン注入などのウェーハ処理プロセスは、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。 Semicorex は、高純度の炭化ケイ素 (SiC) でコーティングされたグラファイト構造を提供し、優れた耐熱性と耐久性のある耐薬品性、均一な熱均一性を提供して一貫したエピ層の厚さと抵抗を実現します。
チャンバー蓋 →
結晶成長やウェーハ取り扱い処理に使用されるチャンバー蓋は、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。
エンドエフェクター →
エンドエフェクターは、半導体ウェーハをウェーハ処理装置とキャリア内の位置の間で移動させるロボットのハンドです。
インレットリング →
MOCVD装置によるSiCコーティングガス入口リング 化合物成長により耐熱性、耐食性が高く、極限環境下でも安定性が優れています。
フォーカスリング →
Semicorex が提供する炭化ケイ素コーティングされたフォーカス リングは、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に対して非常に安定しています。
ウエハチャック →
Semicorex の超平面セラミック真空ウエハ チャックは、ウエハ ハンドリング プロセスで使用される高純度 SiC コーティングが施されています。
Semicorex Wafer Edge Grinding Chuckは、半導体製造におけるウェーハエッジ研削のために設計された、高純度の白いアルミナから作られたセラミックディスクです。セミコレックスを選択することで、最も要求の厳しいウェーハ処理環境をサポートする優れた材料品質、精密エンジニアリング、信頼性の高いパフォーマンスが保証されます。
続きを読むお問い合わせを送信セミコレックス多孔質アルミナチャックは、35〜40%の多孔性を備えた微小な黒いアルミナ掃除機器具であり、半導体製造における均一な吸引と安全なウェーハの取り扱いを提供するように設計されています。セミコレックスを選択することは、信頼性の高いセラミックエンジニアリング、優れた材料品質、および収量とプロセスの安定性を保護する一貫したパフォーマンスを意味します。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex AL2O3真空チャックは、半導体アプリケーションでのウェーハハンドリング用に特別に設計された、35〜40%の多孔度を持つ黒アルミナから作られた微小肺セラミック吸着具合です。 Semicorexを選択するということは、高度なセラミック技術、精密エンジニアリング、およびクリーンルーム環境を要求する安定したパフォーマンスを確保する信頼できる製品品質の恩恵を受けることを意味します。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex Alumina Ceramic Armは、半導体製造における正確および汚染のないウェーハの取り扱い用に設計された高純度のロボットコンポーネントです。 Semicorexを選択すると、高度なアルミナセラミックの材料品質だけでなく、重要なプロセス環境での耐久性、清潔さ、信頼性を保証する精密な職人技も確保されます。*
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex sicインレットリングは、半導体処理装置用に設計された高性能炭化炭化物成分であり、例外的な熱安定性、耐薬品性、および精密機械加工を提供します。 Semicorexを選択すると、大手半導体メーカーが信頼する信頼性が高く、カスタマイズされた、汚染のないソリューションへのアクセスを得ることができます。
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