ICPエッチング用SiCサセプタ

Semicorex ICP エッチング用 SiC サセプタは、高水準の品質と一貫性を維持することに重点を置いて製造されています。これらのサセプタの作成に使用される堅牢な製造プロセスにより、各バッチが厳しい性能基準を満たしていることが保証され、半導体エッチングにおいて信頼性の高い一貫した結果が得られます。さらに、Semicorex は、半導体業界の急速な納期要求に対応し、品質を損なうことなく生産スケジュールを確実に守るために重要な短納期スケジュールを提供する設備を備えています。私たち Semicorex は、高性能の製品の製造と供給に専念しています。品質とコスト効率を融合したICPエッチング用SiCサセプター**

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製品説明

Semicorex ICP エッチング用 SiC サセプタは、その優れた熱伝導率で知られており、表面全体に迅速かつ均一な熱分布を可能にします。この機能は、エッチングプロセス中に一貫した温度を維持し、パターン転写の高精度を保証するために非常に重要です。さらに、SiC の低い熱膨張係数により、さまざまな温度下での寸法変化が最小限に抑えられるため、構造の完全性が維持され、正確かつ均一な材料の除去がサポートされます。

ICP エッチング用 SiC サセプタの顕著な特性の 1 つは、プラズマ衝撃に対する耐性です。この耐性により、これらのエッチングプロセスでは一般的なプラズマ衝撃の過酷な条件下でサセプタが劣化したり浸食されたりしないことが保証されます。この耐久性により、エッチングプロセスの信頼性が向上し、欠陥を最小限に抑えた、きれいで明確なエッチングパターンの生成に貢献します。

ICP エッチング用 SiC サセプタは本質的に強酸や強アルカリに対する耐食性を備えており、これは ICP エッチング環境で使用される材料にとって不可欠な特性です。この耐薬品性により、たとえ攻撃的な化学試薬にさらされた場合でも、ICP エッチング用 SiC サセプターの物理的および機械的特性が長期間維持されることが保証されます。この耐久性により、頻繁な交換やメンテナンスの必要性が軽減され、それによって運用コストが削減され、半導体製造施設の稼働時間が増加します。

Semicorex ICP エッチング用 SiC サセプタは、特定の寸法要件を満たすように精密に設計できます。これは、さまざまなウェハサイズや処理仕様に対応するためにカスタマイズが必要になることが多い半導体製造において重要な要素です。この適応性により、既存の装置やプロセスラインとの統合が可能になり、エッチングプロセスの全体的な効率と有効性が最適化されます。