Semicorex は、半導体プロセスを改善するためのパートナーです。当社の炭化ケイ素コーティングは緻密で、高温、耐薬品性に優れており、半導体ウエハおよびウエハ処理、半導体製造を含む半導体製造のサイクル全体でよく使用されます。
高純度の SiC セラミック コンポーネントは、半導体プロセスに不可欠です。当社の製品は、エピタキシーまたは MOCVD 用の炭化ケイ素ウェーハボート、カンチレバーパドル、チューブなどのウェーハ処理装置の消耗部品に及びます。
半導体プロセスの利点
エピタキシーや MOCVD などの薄膜堆積段階、またはエッチングやイオン注入などのウェーハ処理プロセスは、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。 Semicorex は、優れた耐熱性と耐久性のある耐薬品性を備えた高純度の炭化ケイ素 (SiC) 構造を提供し、均一な熱均一性により一貫したエピ層の厚さと抵抗を実現します。
チャンバー蓋 →
結晶成長やウェーハ取り扱い処理に使用されるチャンバー蓋は、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。
カンチレバーパドル →
カンチレバー パドルは、半導体製造プロセス、特に拡散や RTP などのプロセス中の拡散炉や LPCVD 炉で使用される重要なコンポーネントです。
プロセスチューブ →
プロセス チューブは、RTP、拡散などのさまざまな半導体処理アプリケーションで特別に設計された重要なコンポーネントです。
ウエハーボート →
Wafer Boat は半導体処理に使用され、製造の重要な段階でデリケートなウェハーが安全に保たれるように細心の注意を払って設計されています。
インレットリング →
MOCVD装置によるSiCコーティングガス入口リング 化合物成長により耐熱性、耐食性が高く、極限環境下でも安定性が優れています。
フォーカスリング →
Semicorex が提供する炭化ケイ素コーティングされたフォーカス リングは、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に対して非常に安定しています。
ウエハチャック →
Semicorex の超平面セラミック真空ウエハ チャックは、ウエハ ハンドリング プロセスで使用される高純度 SiC コーティングが施されています。
Semicorex では、アルミナ (Al2O3)、窒化ケイ素 (Si3N4)、窒化アルミニウム (AIN)、ジルコニア (ZrO2)、複合セラミックなどのセラミック製品も取り揃えています。
優れた硬度、優れた耐摩耗性、顕著な高温耐性、強力な化学的安定性を備えた SSIC シール リングは、現代の機械加工プロセスにおいてかけがえのないシール ソリューションとなっています。高温、高圧、強い腐食などの困難で複雑な作業条件にも完全に対応できます。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex カーボン セラミック ディスクは先進的な素材で作られており、バイク、自動車、航空機のブレーキ システムに適用されています。カーボンセラミックディスクはその材料特性により、寿命と高速走行時の安定性を大幅に向上させ、運転時の安全性を相対的に強化します。セミコレックスは、お客様のニーズに基づいて高品質にカスタマイズされたカーボン セラミック ディスクを提供します。*
続きを読むお問い合わせを送信多結晶アルミナ繊維板は、耐熱衝撃性、耐食性、耐酸化性に優れた高性能耐火板材です。この耐火性能により、高温炉、高温窯、高温反応器、高温パイプライン、高温炉ドア、高温炉壁などの厳しい高温環境で広く使用されています。 Semicorex を選択すると、非常に費用対効果の高い価格、パーソナライズされた 1 対 1 のカスタマイズ サービス、優れた製品品質の恩恵を受けることができます。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex のカスタマイズ可能なセラミック ノズルは、細部まで細心の注意を払って製造されており、比類のない均一性と精度で気体と液体の両方の流量を制御するための天才的なソリューションです。セミコレックスでは皆様のご相談を心よりお待ちしております。
続きを読むお問い合わせを送信