SiC拡散炉管

高い曲げ強度: Semicorex SiC 拡散炉チューブは 200MPa を超える曲げ強度を誇り、半導体製造プロセスに典型的な高応力条件下で優れた機械的性能と構造的完全性を保証します。

優れた耐酸化性：非酸化物セラミックスの中で最も優れた耐酸化性を示すSiC拡散炉管です。この特性により、高温環境における長期の安定性と性能が確保され、劣化のリスクが軽減され、チューブの動作寿命が延長されます。

優れた耐食性: SiC 拡散炉チューブの化学的不活性により優れた耐食性が得られ、これらのチューブは半導体プロセスで頻繁に遭遇する過酷な化学環境での使用に最適です。

高い耐摩耗性: SiC 拡散炉チューブは高い耐摩耗性を備えており、これは寸法安定性を維持し、摩耗条件下で長期間使用する際のメンテナンス要件を軽減するために重要です。

低い摩擦係数: SiC 拡散炉チューブの摩擦係数が低いため、チューブとウェーハの両方の磨耗が軽減され、スムーズな動作が確保され、半導体処理中の汚染リスクが最小限に抑えられます。

優れた高温機械的特性: SiC 拡散炉管は、優れた強度や耐クリープ性など、既知のセラミック材料の中で最高の高温機械的特性を示します。このため、高温での長期安定性が必要な用途に特に適しています。

CVD コーティング: Semicorex 化学蒸着 (CVD) SiC コーティングは、不純物含有量が 5ppm 未満、有害な金属不純物が 1ppm 未満で、99.9995% 以上の純度レベルを達成します。 CVD コーティングプロセスにより、チューブは高精度の半導体製造環境に不可欠な 2 ～ 3 Torr の厳しい真空気密要件を確実に満たします。

拡散炉での用途: これらの SiC 拡散炉管は、ドーピングや酸化などの高温プロセスで重要な役割を果たす拡散炉での使用のために特別に設計されています。高度な材料特性により、これらのプロセスの厳しい条件に耐えることができるため、半導体製造の効率と信頼性が向上します。