ウェーハプロセスヒーター

Semicorex ウエハー プロセス ヒーターは、シリコン カーバイド コーティング (SiC) グラファイトで作られています。このコーティングは、特定のグレードの高密度グラファイトに CVD 法で適用されるため、不活性雰囲気で 3000 °C を超える高温炉で動作できます。真空中2200℃。
Wafer Process Heater 材料の特殊な特性と低質量により、高速加熱速度、均一な温度分布、優れた制御精度が可能になります。他の材料と比較して、シリコン カーバイドの表面は、温度が急激に変化しても熱膨張が小さいため、平坦なままです。ホットプレートは、半導体処理システムの要求の厳しいプロセスに非常に適しています。
Semicorex では、高品質で費用対効果の高い製品をお客様に提供することに重点を置いています。当社のウェーハプロセスヒーターは価格優位性があり、ヨーロッパやアメリカの多くの市場に輸出されています。私たちは、一貫した高品質の製品と優れた顧客サービスを提供する、お客様の長期的なパートナーになることを目指しています。

ウェーハプロセスヒーターのパラメータ

ウエハープロセスヒーターの特長

- 耐用年数を改善するための CVD SiC コーティング。
- 高温耐性、耐腐食性、長寿命により、ウェーハの品質と歩留まりを向上させることができます。
- 非常に低い熱膨張係数、高温耐性、高い耐摩耗性、優れた絶縁性、優れた化学的安定性、および紫 (赤) に近い可視光透過性を備えています。

酸化防止、長寿命の黒鉛坩堝、黒鉛金型、黒鉛ヒーターの全部品をご提供できます。