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SiC エンドエフェクター

SiC エンドエフェクター

Semicorex は、中国における炭化ケイ素コーティングされたグラファイト サセプタの大規模メーカーおよびサプライヤーです。当社は炭化ケイ素層やエピタキシー半導体などの半導体産業に注力しています。当社の SiC エンドエフェクターは価格面で優れており、ヨーロッパおよびアメリカ市場の多くをカバーしています。私たちは、お客様の中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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製品説明

Semicorex SiC エンドエフェクターは炭化ケイ素コーティング (SiC) グラファイトで作られており、コーティングは CVD 法によって特定グレードの高密度グラファイトに適用されているため、不活性雰囲気下で 3000 °C 以上の高温炉で動作できます。真空中では2200℃。

当社の SiC エンド エフェクターは、最適な層流ガス フロー パターンを実現し、熱プロファイルの均一性を確保するように設計されています。これにより、汚染や不純物の拡散が防止され、ウェーハチップ上で高品質のエピタキシャル成長が保証されます。

SiC エンドエフェクターの詳細については、今すぐお問い合わせください。


SiCエンドエフェクターのパラメータ

CVD-SICコーティングの主な仕様

SiC-CVDの特性

結晶構造

FCC βフェーズ

密度

g/cm3

3.21

硬度

ビッカース硬さ

2500

粒度

μm

2~10

化学純度

%

99.99995

熱容量

J kg-1 K-1

640

昇華温度

2700

感覚の強さ

MPa(室温4点)

415

ヤング率

Gpa (4pt曲げ、1300℃)

430

熱膨張 (C.T.E)

10-6K-1

4.5

熱伝導率

(W/mK)

300


SiCエンドエフェクターの特長

- 剥がれを避け、すべての表面を確実にコーティングしてください。

高温酸化耐性:1600℃までの高温でも安定

高純度: 高温塩素化条件下での CVD 化学蒸着によって製造されます。

耐食性:高硬度、緻密な表面、微細な粒子。

耐食性: 酸、アルカリ、塩および有機試薬。

- 最適な層流ガス流パターンを実現

- 熱プロファイルの均一性を保証

- 汚染や不純物の拡散を防止します。




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