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TaC コーティングされた遊星プレート
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TaC コーティングされた遊星プレート

Semicorex TaC コーティングされた遊星プレートは、MOCVD エピタキシャル成長用に設計された高精度コンポーネントで、複数のウェーハポケットと最適化されたガス流量制御による遊星運動を特徴としています。 Semicorex を選択するということは、半導体業界に優れた耐久性、純度、プロセスの安定性を提供する高度なコーティング技術とエンジニアリングの専門知識を利用できることを意味します*。

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製品説明

Semicorex TaC コーティングされたプラネタリー プレートは、MOCVD リアクター内の重要なコンポーネントとして機能し、その表面に沿って配置された多数のウェーハ ポケットを特徴とするプラネタリー設計を示します。これらのポケットは、エピタキシャル層の成長段階中にウェーハを確実に収容し、基板ウェーハを安定させ、高温のプロセス温度下での基板の動きを最小限に抑えるために特別に作成されています。正確なポケット形状により、同じプロセスで成長するすべてのウェーハのエピタキシャル層の厚さを均一にし、基板欠陥レベルを均一にするために重要な一貫したウェーハ配置が実現します。


遊星プレートの重要な設計面は、繰り返しになりますが、プレートの表面に沿って微細なガス流孔を設計的に分散させたことです。これらの穴は、リアクター内の前駆体ガスの流れを計測するために慎重に設計され、戦略的に配置されているため、各ウェーハ間で均一なガス分散と均一な堆積が実現されます。 MOCVD プロセスでは、膜の品質、厚さの均一性、およびデバイス全体の性能を決定する上で、ガス力学の側面が重要です。最適化された穴デザインTaCコーティングTaC コーティングされた遊星プレートの寿命と耐久性により、MOCVD システムにとってコスト効率の高い選択肢となります。耐久性のある TaC 層は、繰り返しの熱サイクルや極端なプロセスガスへの曝露に耐えることができ、長期間にわたって動作しながら構造の完全性と性能の安定性を維持します。


TaC(炭化タンタル)コーティング遊星プレートの性能と寿命をさらに延長します。炭化タンタルは非常に硬く、化学的に不活性で、熱伝導性が高いため、極端な MOCVD 環境に最適なコーティングとなります。エピタキシー中、リアクター内のコンポーネントは高温、反応性前駆体ガス、プラズマへの曝露にさらされます。 TaC コーティングは、腐食、酸化、粒子の発生に対する強力なバリアとして機能し、コーティングされていない、または従来のコーティングが施されたプレートよりも遊星プレートの寿命が大幅に延長されます。


TaC コーティングされた遊星プレートの寿命と耐久性により、MOCVD システムにとってコスト効率の高い選択肢となります。耐久性のある TaC 層は、繰り返しの熱サイクルや極端なプロセスガスへの曝露に耐えることができ、長期間にわたって動作しながら構造の完全性と性能の安定性を維持します。


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