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SiSiCウェーハボート
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SiSiCウェーハボート

Semicorex SiSiC ウェーハ ボートは半導体の重要なコンポーネントであり、CVD コーティングを施した高純度の炭化ケイ素セラミックで作られています。 Semicorex は、顧客のニーズに基づいて最適なソリューションを提供でき、世界中のパートナーから認定を受けています。*

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製品説明

半導体および太陽電池製造の競争環境では、スループットとコンポーネントの寿命のバランスをとることが不可欠です。私たちのSiSiC Wafer Boat は、高温炉操作の「産業用主力馬」となるように設計されています。反応結合プロセスを利用することで、従来の石英や標準的なセラミックと比較して、優れた機械的強度と耐熱衝撃性を備えたキャリアを提供します。


SiSiC の科学: 反応結合が重要な理由

粉末を高圧で固めて形成される焼結SiCとは異なり、SiSiCウェーハボート 多孔質カーボンプリフォームに溶融シリコンを浸透させることによって製造されます。この「反応接着」プロセスにより、製造中の収縮がほぼゼロの材料が得られ、複雑で大規模なボート構造を驚異的な寸法精度で製造できるようになります。


1. 優れた耐熱衝撃性

バッチ処理における最も重要な課題の 1 つは、炉の急速な「プッシュプル」サイクルです。石英キャリアは熱応力によって亀裂が生じることがよくあります。 SiSiC は、非常に高い破壊係数 (MOR) と優れた熱伝導率を備えています。これにより、当社のボートは構造的な故障のリスクを冒さずに急激な温度上昇に耐えることができ、機器のダウンタイムの削減に直接つながります。


2. 温度下での高い耐荷重能力

スループットを最大化するためにウェーハサイズが大きくなり、バッチが大きくなると、キャリアにかかる重量が増加します。当社の SiSiC ボートは、優れた耐クリープ性を示します。他の材料は 1,250°C の高負荷でたわんだり反ったりする可能性がありますが、SiSiC はその形状を維持し、数千回のサイクルにわたってウェーハ スロットの平行度が完全に維持されることを保証します。


3. 化学的不活性性と表面の完全性

当社の SiSiC ボートは、過酷な化学環境向けに設計されています。この材料は、LPCVD および拡散プロセスで使用される腐食性ガスに対して本質的に耐性があります。さらに、表面は「遊離シリコン」の移行がないように処理されており、ウェーハの電気的完全性を保護する安定したクリーンな環境を提供します。


技術仕様: SiSiC パフォーマンス マトリックス

財産
SiSiC (反応結合)
伝統的なクォーツ
産業上の利益
最高使用温度
1,350℃~1,380℃
~1,100℃
プロセスの柔軟性が向上
熱伝導率
> 150 W/m・K
1.4W/m・K
急速かつ均一な加熱
弾性率
~330GPa
~70GPa
重い負荷がかかってもたわみません
気孔率
< 0.1%
0%
最小限のガス吸収
密度
3.02 - 3.10 g/cm3
2.20 g/cm3
高い構造安定性

世界的な製造基準に合わせて最適化

当社の SiSiC ウェーハボートは、TEL (東京エレクトロン)、ASM、国際電気などの世界の大手炉 OEM と互換性があります。当社は以下のカスタマイズされたソリューションを提供します。


横型拡散炉: 150mm および 200mm ウェーハ用の高精度スロッティングを備えた長尺ボート。

縦型炉システム: ガスの流れと熱均一性を最適化する低質量設計。

太陽光発電セルの製造: 大量の POCl3 拡散用に設計された特殊な SiSiC キャリアは、石英よりも 5 ~ 10 倍長い耐用年数を提供します。

専門家の洞察: 1,380°C を超えるプロセスには、当社の焼結 SiC ラインをお勧めします。ただし、拡散、酸化、および LPCVD ステップの大部分では、SiSiC は業界で最もコスト効率の高い性能対寿命比を実現します。


当社と提携する理由

材料の専門知識: 当社は、反応接合プロセス用に高純度のアルファ SiC 粉末と電子グレードのシリコンのみを調達しています。

精密エンジニアリング: 当社の CNC 研削機能により、スロットの公差が ±0.02 mm 以内で、ウェーハの振動や破損が軽減されます。

持続可能性と ROI: 石英から SiSiC に切り替えることにより、工場では通常、交換頻度が大幅に減少するため、年間消耗品支出が 40% 削減されます。

当社が出荷するすべてのボートには、適合証明書 (CoC) と全寸法検査レポートが付属しており、プロセス キットがクリーンルームにすぐに設置できる状態であることが保証されます。




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