シリコン炭化物スキャンミラー

セミコレックス炭化物シリコンスキャンミラーは、次世代の高性能光学デバイスです。  スキャンの加速された世界のために開発されたミラーは、非常に高速、高度な安定性、および精度を必要とするアプリケーションに最新世代のビームステアリングとスキャン機能を提供します。 炭化シリコンスキャンミラーには、高度なセラミック製造によりユニークな属性があります。ミラーは非常に軽いですが、優れた機械的および熱特性があります。そのため、高度なリソグラフィ、宇宙ベースの観察、レーザースキャン、高速/リアルタイムイメージングなどの産業の高精度光学システムに理想的であると考えられています。

炭化シリコンスキャンミラーの機能の重要な側面は、高性能スキャンの要件を満たす最適な特異的剛性を開発することです。  低密度と高い弾性弾性率は、高レベルの剛性を提供するため、非常に高い加速と動的な動きを移動しながら構造的特性を維持します。  剛性が大きいほど、非常に高い負荷の影響を受けると変形が低くなり、イメージングが高速で正確な位置決めを必要とする場合、光学的歪みが少なくなります。高周波スキャナーでは、ミラーの剛性により、解像度と沈降時間が直接改善されます。

別の特定の特性は、SICの硬度です。  硬度は、表面の損傷、傷、または摩耗に抵抗する材料の能力として定義されます。  硬度の向上とは、研磨粒子を備えた過酷な条件であっても、長い運用寿命を意味し、繰り返し洗浄します。また、高い硬度により、ミラーは、拡張された使用サイクルにわたって表面精度を維持し、光学性能を維持し、メンテナンス要件を削減できます。

熱管理は、炭化シリコンが輝く別の特徴です。熱伝導率が高いため、SICは高出力レーザービームまたは熱環境の変化から熱の蓄積を消散させることができます。これは、ミラーの変形または誤りを生み出す可能性のある熱勾配を最小限に抑え、長時間の運用中に一貫した性能を可能にするのに役立ちます。頂点の高い熱安定性SICは、温度変化との膨張/収縮を最小限に抑えるため、すべての環境条件の寸法安定性が不可欠である場合に光学アライメントを維持します。

アプリケーションに関するパフォーマンスと可能性を促進するために、利用可能な多くの表面コーティングオプションがあります。たとえば、CVD SICコーティングを使用すると、表面の均一性、硬度、風化可能性が向上する可能性があります。シリコンコーティングにより、ミラー表面自体など、追加の光学コーティングを堆積するためのより良い反射インターフェイスを可能にし、特定の波長範囲、レーザー電力レベル、大気条件に応じて最適化の機会を提供します。ミラーが（たとえば）これらの追加の表面コーティングを使用して、意図したアプリケーションの特定の光学的および耐久性要件を確実に達成できるようにすることができます。

シリコン炭化物スキャンミラーのもう1つの重要な利点は、形状やジオメトリなどのカスタマイズです。ミラーは、平らで球形、非球面にカスタマイズでき、光学設計に応じて一般的に高精度が予想されます。軽量の背面構造を組み込むことにより、ミラーの質量を剛性を失うことなくさらに減らすことができ、スキャンを速くし、システムの反応時間を速くします。これらの機能はすべて、アプリケーションの光学的および機械的ニーズに応じて、各ミラーの個別化された形状、仕上げ、コーティングの機会を提供します。

シリコン炭化物スキャンミラーは、宇宙ベースの光学システムで特に有利です。この光学システムでは、大量の節約、剛性、熱安定性が生存と軌道のパフォーマンスを確保するのに役立ちます。リソグラフィでは、SICスキャンミラーの寸法安定性と高い剛性特性は、半導体製造に重要なナノメートルレベルの位置を提供します。強力なレーザースキャンシステムでは、SICの熱分散性と表面の耐久性は、長期的な安定性と最小限の歪みを提供します。

セミコレックス炭化物シリコンスキャンミラーは、軽量構造、高い剛性、高い硬度、高い熱伝導率、熱安定性の無敵の組み合わせを提供します。カスタマイズ可能な形状、精密な表面仕上げ、CVD SICやシリコンオープンドアを含む革新的なコーティングのユニークなオプションと、今日で最も要求の厳しい光学スキャンアプリケーションのパフォーマンス特性と信頼性を追加します。