SiCウエハーボート

Semicorex SiC ウェーハ ボートは、炭化ケイ素 (SiC) セラミックから作られ、高温環境で比類のないパフォーマンスを提供することで、半導体業界の需要を満たす道を切り開きます。半導体産業が微細加工の限界を容赦なく押し上げるにつれて、弾力性と堅牢性のある材料に対する需要が最も重要になっています。

SiC ウェーハ ボートは、拡散、酸化、化学蒸着 (CVD) などの熱プロセス中に複数のウェーハを保持および支持する上で重要な役割を果たします。これらのプロセスでは、制御された雰囲気内でウェーハを非常に高い温度 (多くの場合 1000°C を超える) にさらす必要があります。これらの熱処理の均一性と一貫性は、製造される半導体デバイスの品質と性能を確保するために重要です。 SiC ウェーハ ボートは、変形や劣化なしにこのような高温に耐えることができるため、ウェーハが均一に処理され、優れたデバイスの歩留まりと性能が得られます。

SiC ウェーハボートの優れた熱伝導率により、すべてのウェーハ全体に均一な熱分布が保証され、半導体デバイスの欠陥につながる可能性のある温度勾配のリスクが最小限に抑えられます。さらに、SiC は熱膨張係数 (CTE) が低いため、加熱および冷却サイクル中の熱膨張と熱収縮が最小限に抑えられます。この安定性は、特にデバイスの形状が縮小する場合に、機械的ストレスやウェーハへの潜在的な損傷を防ぐために非常に重要です。

熱プロセス中、ウェーハはさまざまな反応性ガスにさらされ、SiC ウェーハボートの材料と相互作用する可能性があります。 SiC は優れた耐薬品性を備えているため、これらのガスと反応せず、汚染を防ぎ、ウェーハの純度を確保します。これは、微量の汚染でも欠陥につながり、デバイスの信頼性が低下する可能性がある高度な半導体デバイスの製造において特に重要です。