SiC真空チャック

Semicorex SiC 真空チャックは、重要な処理段階で最高の安定性と信頼性で半導体ウェーハをしっかりと保持する特別に設計されたツールです。 SiC 真空チャックの CVD SiC コーティングは、優れた機械的強度、耐薬品性、熱安定性を提供し、繊細なウェーハを潜在的な損傷や汚染から確実に保護します。

SiC 真空チャックのグラファイトと SiC コーティングの独自の組み合わせは、高い熱伝導率と最小限の熱膨張係数を実現します。これにより、効率的な熱放散とウェーハ表面全体の均一な温度分布が可能になります。これらの機能は、半導体製造プロセスにおいて最適な処理条件を維持し、歩留まりを向上させるために不可欠です。

SiC 真空チャックは真空環境にも適合し、チャックとウェハ間の優れた密着性を保証します。これにより、高精度作業時の滑りや位置ずれのリスクを排除します。その非多孔質表面と不活性特性により、ガスの放出や粒子による汚染がさらに防止され、半導体製造環境の純度と完全性が保護されます。

Semicorex SiC 真空チャックは半導体製造の基礎技術であり、業界の進化する需要を満たす比類のないパフォーマンスと耐久性を提供します。リソグラフィー、エッチング、蒸着、その他の重要なプロセスで使用される場合でも、この高度なソリューションは、半導体ウェーハの取り扱いと処理における卓越性の基準を再定義し続けています。