SIC横型炉管

SIC横型炉管は、炉システムの不可欠なキャリアであり、通常、半導体製造装置または太陽光発電装置のコア加熱領域に配置されます。これらは、加熱要素、温度制御システム、ガス制御システム、ウェーハボートと連携して完全な炉システムを形成します。

実際の操作では、SIC 横型炉管は発熱体によって加熱され、炭化ケイ素材料の優れた熱伝導率を利用して熱が炉管に均一に伝達されます。一方、特定のプロセスガス (酸素、窒素、ドーピングガスなど) が炉管に導入されます。この高温ガス雰囲気の影響により、炉内の半導体材料は化学反応または物理的変化を起こし、最終的には材料の変更、ドーピング、または構造の最適化が達成されます。

Semicorex の SIC 横型炉管は、優れた機械的強度と硬度を実現し、大量のウェーハの取り扱いや処理を伴う用途で重要な役割を果たします。 SIC 横型炉管は、酸化、拡散、アニーリングなどの熱処理プロセスでウェーハを安定してサポートし、高温処理中にウェーハが正しい位置にあることを保証し、熱応力による位置ずれや変形を回避します。

Semicorex の SIC 横型炉管は高純度の原料から製造されています。炭化ケイ素セラミックス不純物含有量が極めて低く、続いて CVD を堆積します。炭化ケイ素コーティング彼らの表面には。この製造方法により、SIC 横型炉管に保護層が追加され、要求の厳しい高温および腐食環境において長期間にわたって安定して動作することが可能になります。 SIC 横型炉管のこの耐食性能により、腐食による部品損傷のリスクが効果的に低減され、頻繁な交換やメンテナンスの必要性が軽減されるため、半導体ウェーハ製造の効率が向上します。

Semicorex の SIC 横型炉管は、非常に多くの優れた特性を備えており、酸化プロセス、拡散プロセス、アニーリングプロセス、低圧化学気相成長など、太陽光発電および半導体産業の多くの高温処理プロセスで広く使用されています。