私たちは専門メーカーとして、半導体部品を提供したいと考えています。 Semicorex は、半導体プロセスを改善するためのパートナーです。当社の炭化ケイ素コーティングは緻密で、高温、耐薬品性に優れており、半導体ウエハおよびウエハ処理、半導体製造を含む半導体製造のサイクル全体でよく使用されます。
高純度の SiC コーティングされたコンポーネントは、半導体プロセスにとって極めて重要です。当社の製品は、結晶成長ホットゾーン用のグラファイト消耗品 (ヒーター、るつぼサセプタ、断熱材) から、エピタキシーまたは MOCVD 用の炭化ケイ素でコーティングされたグラファイト サセプタなどのウェーハ処理装置用の高精度グラファイト コンポーネントまで多岐にわたります。
半導体プロセスの利点
エピタキシーや MOCVD などの薄膜堆積段階、またはエッチングやイオン注入などのウェーハ処理プロセスは、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。 Semicorex は、高純度の炭化ケイ素 (SiC) でコーティングされたグラファイト構造を提供し、優れた耐熱性と耐久性のある耐薬品性、均一な熱均一性を提供して一貫したエピ層の厚さと抵抗を実現します。
チャンバー蓋 →
結晶成長やウェーハ取り扱い処理に使用されるチャンバー蓋は、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。
エンドエフェクター →
エンドエフェクターは、半導体ウェーハをウェーハ処理装置とキャリア内の位置の間で移動させるロボットのハンドです。
インレットリング →
MOCVD装置によるSiCコーティングガス入口リング 化合物成長により耐熱性、耐食性が高く、極限環境下でも安定性が優れています。
フォーカスリング →
Semicorex が提供する炭化ケイ素コーティングされたフォーカス リングは、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に対して非常に安定しています。
ウエハチャック →
Semicorex の超平面セラミック真空ウエハ チャックは、ウエハ ハンドリング プロセスで使用される高純度 SiC コーティングが施されています。
Semicorex SiC 加熱フィラメントは、高度な半導体製造におけるウェーハ加熱用に設計された炭化ケイ素でコーティングされたグラファイト ヒーターです。 Semicorex を選択するということは、最も要求の厳しい熱プロセスに高純度の材料、高精度のカスタマイズ、および長期にわたるパフォーマンスを提供する信頼できるパートナーを選択することを意味します。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex SiC フォーカス リングは、半導体製造におけるプラズマ分布とウェーハ プロセスの均一性を最適化するように設計された高純度炭化ケイ素リング コンポーネントです。 Semicorex を選択するということは、世界中の主要な半導体製造工場から信頼される、一貫した品質、高度な材料エンジニアリング、信頼性の高いパフォーマンスを保証することを意味します。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex Wafer Edge Grinding Chuckは、半導体製造におけるウェーハエッジ研削のために設計された、高純度の白いアルミナから作られたセラミックディスクです。セミコレックスを選択することで、最も要求の厳しいウェーハ処理環境をサポートする優れた材料品質、精密エンジニアリング、信頼性の高いパフォーマンスが保証されます。
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