私たちは専門メーカーとして、半導体部品を提供したいと考えています。 Semicorex は、半導体プロセスを改善するためのパートナーです。当社の炭化ケイ素コーティングは緻密で、高温、耐薬品性に優れており、半導体ウエハおよびウエハ処理、半導体製造を含む半導体製造のサイクル全体でよく使用されます。
高純度の SiC コーティングされたコンポーネントは、半導体プロセスにとって極めて重要です。当社の製品は、結晶成長ホットゾーン用のグラファイト消耗品 (ヒーター、るつぼサセプタ、断熱材) から、エピタキシーまたは MOCVD 用の炭化ケイ素でコーティングされたグラファイト サセプタなどのウェーハ処理装置用の高精度グラファイト コンポーネントまで多岐にわたります。
半導体プロセスの利点
エピタキシーや MOCVD などの薄膜堆積段階、またはエッチングやイオン注入などのウェーハ処理プロセスは、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。 Semicorex は、高純度の炭化ケイ素 (SiC) でコーティングされたグラファイト構造を提供し、優れた耐熱性と耐久性のある耐薬品性、均一な熱均一性を提供して一貫したエピ層の厚さと抵抗を実現します。
チャンバー蓋 →
結晶成長やウェーハ取り扱い処理に使用されるチャンバー蓋は、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。
エンドエフェクター →
エンドエフェクターは、半導体ウェーハをウェーハ処理装置とキャリア内の位置の間で移動させるロボットのハンドです。
インレットリング →
MOCVD装置によるSiCコーティングガス入口リング 化合物成長により耐熱性、耐食性が高く、極限環境下でも安定性が優れています。
フォーカスリング →
Semicorex が提供する炭化ケイ素コーティングされたフォーカス リングは、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に対して非常に安定しています。
ウエハチャック →
Semicorex の超平面セラミック真空ウエハ チャックは、ウエハ ハンドリング プロセスで使用される高純度 SiC コーティングが施されています。
Semicorex シリコン ペデスタル ボートは、高温の酸化、拡散、および LPCVD プロセスで正確かつ安定したウェーハをサポートするように設計された 9N 超高純度ウェーハ キャリアです。比類のない材料純度、精密加工、実証済みの信頼性を備えた Semicorex をお選びください*
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex シリコン インジェクターは、LPCVD ポリシリコン堆積プロセスで正確かつ汚染のないガスを供給できるように設計された超高純度の管状コンポーネントです。業界をリードする純度、精密加工、実証済みの信頼性を備えた Semicorex をお選びください。*
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex シリコン ウェーハ ボートは、半導体高温炉用に設計された高純度キャリアで、1200 ~ 1250 °C の酸化および還元プロセス中にウェーハをサポートします。 Semicorex は、デバイスの歩留まりを直接向上させる優れた製品、超クリーンなパフォーマンス、信頼性の高い結果を提供します。*
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex シリコン シールド リングは、高度なプラズマ エッチング システム用に設計された高純度シリコン コンポーネントで、保護シールドと補助電極の両方として機能します。 Semicorex は、精密に設計された半導体コンポーネントにより、超クリーンなパフォーマンス、プロセスの安定性、優れたエッチング結果を保証します。*
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex SiC セラミック パドルは、主に酸化および拡散プロセスで使用される半導体高温炉用に設計された高純度カンチレバー コンポーネントです。 Semicorex を選択するということは、重要なウェーハ処理用途で優れた安定性、清浄度、耐久性を保証する高度なセラミック ソリューションにアクセスできることを意味します。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex SiC コーティングされたハーフムーン部品は、エピタキシャル装置の必須要素として設計された精密設計コンポーネントであり、2 つの半月型セクションが結合して完全なコアアセンブリを形成します。 Semicorex を選択するということは、高度な半導体製造のための安定したウェーハサポートと効率的な熱伝導を保証する、信頼性が高く、高純度で耐久性のあるソリューションを確保することを意味します。*
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