私たちは専門メーカーとして、半導体部品を提供したいと考えています。 Semicorex は、半導体プロセスを改善するためのパートナーです。当社の炭化ケイ素コーティングは緻密で、高温、耐薬品性に優れており、半導体ウエハおよびウエハ処理、半導体製造を含む半導体製造のサイクル全体でよく使用されます。
高純度の SiC コーティングされたコンポーネントは、半導体プロセスにとって極めて重要です。当社の製品は、結晶成長ホットゾーン用のグラファイト消耗品 (ヒーター、るつぼサセプタ、断熱材) から、エピタキシーまたは MOCVD 用の炭化ケイ素でコーティングされたグラファイト サセプタなどのウェーハ処理装置用の高精度グラファイト コンポーネントまで多岐にわたります。
半導体プロセスの利点
エピタキシーや MOCVD などの薄膜堆積段階、またはエッチングやイオン注入などのウェーハ処理プロセスは、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。 Semicorex は、高純度の炭化ケイ素 (SiC) でコーティングされたグラファイト構造を提供し、優れた耐熱性と耐久性のある耐薬品性、均一な熱均一性を提供して一貫したエピ層の厚さと抵抗を実現します。
チャンバー蓋 →
結晶成長やウェーハ取り扱い処理に使用されるチャンバー蓋は、高温や過酷な化学洗浄に耐える必要があります。
エンドエフェクター →
エンドエフェクターは、半導体ウェーハをウェーハ処理装置とキャリア内の位置の間で移動させるロボットのハンドです。
インレットリング →
MOCVD装置によるSiCコーティングガス入口リング 化合物成長により耐熱性、耐食性が高く、極限環境下でも安定性が優れています。
フォーカスリング →
Semicorex が提供する炭化ケイ素コーティングされたフォーカス リングは、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に対して非常に安定しています。
ウエハチャック →
Semicorex の超平面セラミック真空ウエハ チャックは、ウエハ ハンドリング プロセスで使用される高純度 SiC コーティングが施されています。