シリコンインジェクター

Semicorex シリコン インジェクターは、ポリシリコンおよび薄膜堆積用の低圧化学蒸着 (LPCVD) システムでガスを正確に供給するために設計された超高純度コンポーネントです。 9N (99.9999999%) で作られています。高純度シリコン、この細い管状インジェクターは、極端なプロセス条件下でも優れた清浄度、化学薬品との適合性、および熱安定性を提供します。

半導体製造がより高いレベルの集積化とより厳格な汚染管理に進化し続けるにつれて、成膜チャンバー内のすべてのガス供給コンポーネントも以前よりも高い基準を満たすことが求められます。 Semicorex シリコン インジェクターは、膜の品質やウェーハの歩留まりに悪影響を与える汚染を引き起こすことなく、反応チャンバー全体に安定かつ均一な方法でガス材料を供給するという、この種の要件に合わせて特別に開発されました。

インジェクターはプロセス要件に応じて単結晶シリコンまたは多結晶シリコンから製造され、材料は金属不純物、粒子状不純物、およびイオン性不純物が低くなるように設計されています。これにより、微量の汚染でも膜の欠陥やデバイスの故障を引き起こす可能性がある超クリーンな LPCVD 条件との互換性が提供されます。ベース材料としてシリコンを使用することにより、インジェクターとチャンバーのシリコンコンポーネント間の材料の不一致も減少し、使用時および高温動作時の粒子発生リスクや化学反応が大幅に低減されます。

シリコン インジェクターの専用の管状構造により、均一なウェーハ負荷にわたって制御された均等なガス分布が可能になります。微細加工されたオリフィスと滑らかな内面により、炉内での一貫した膜厚と安定した堆積速度に重要な層流ガスのダイナミクスとともに、再現可能な流量が保証されます。シラン (SiH4)、ジクロロシラン (SiH2Cl2)、またはその他の反応性ガスのいずれであっても、インジェクターは高品質のポリシリコン膜の成長に必要な信頼できる性能と精度を提供します。

Semicorex シリコン インジェクターは優れた熱安定性により、最大 1250 °C の温度に耐えることができ、高温 LPCVD の複数サイクル中に変形、亀裂、または反りを心配することなく制御できます。さらに、高い耐酸化性と化学的不活性により、酸化性、還元性、または腐食性の雰囲気下での長時間の稼働が可能になり、同時にメンテナンスの手間が軽減され、プロセスの安定性が生まれます。

各インジェクターは最先端の CNC 機械加工と研磨を使用して製造されており、サブミクロンの寸法公差と超滑らかな表面仕上げを実現しています。高品質の表面仕上げにより、ガスの乱流が最小限に抑えられ、粒子の生成がほとんどまたはまったく発生しないと同時に、一貫性のない熱と圧力の変化に対して一貫した流れ特性が保証されます。精密な製造により、厳密に制御されたプロセス、信頼性の高い結果の再現性、したがって一貫した機器のパフォーマンスが保証されます。

Semicorex は、カスタムの長さ、直径、ノズル構成で利用できるオーダーメイドのシリコン インジェクターを製造しています。カスタマイズされたソリューションを開発して、ワンオフのリアクター形状や堆積レシピのガス分散パターンを強化できます。各インジェクターは最高レベルの半導体グレードを提供するために純度が検査および検証されています。シリコン部品.

Semicorex シリコン インジェクターは、今日の半導体製造に必要な精度と純度を提供します。 9N 超高純度シリコン、ミクロンレベルの加工精度、高い熱的および化学的安定性を組み込むことにより、LPCVD ポリシリコンの堆積時に均一なガス分布、粒子発生の低減、および優れた信頼性が実現します。