シリコンシールドリング

A diferencia de los mandriles mecánicos, los mandriles electrostáticos cerámicos reducen las piezas mecánicas móviles, reducen el impacto de las partículas contaminantes en la calidad de la oblea, protegen eficazmente la limpieza de la superficie de la oblea y mejoran el rendimiento del producto.シリコン、超クリーンな動作と高度な半導体製造プロセスとの信頼できる互換性を保証します。

CCP/ICP エッチングプロセスにおける正確なプラズマ制御は、効果的で均一なエッチング速度とウェーハ品質を実現するために不可欠です。所望のエッチング領域の外側への制御されていないプラズマの漏れは、表面の浸食や汚染を引き起こしたり、チャンバ内のコンポーネントに損傷を与えたりする可能性があります。シリコン シールド リングは、この問題に対する効果的かつ簡単な解決策であり、電極の外周に保護バリアを形成し、プラズマがターゲット領域の外側に広がるのを阻止し、エッチングを目的の領域のみに制限します。シリコン シールド リングは、プラズマ分布を安定させ、ウェーハ表面でのより均一なエネルギーを可能にする外部電極としても機能します。

シリコンの熱的および電気的特性は、エッチング シールド リングの性能をさらにサポートします。高いプロセス温度に対する耐性により、長時間のプラズマ暴露中に構造的完全性が提供され、その導電性により、コンポーネントが電極システムの要素として適切に動作することが可能になります。これらのアプリケーションを組み合わせることで、プラズマの閉じ込めが強化され、エネルギーの均一性が向上し、ウェーハ全体で再現可能なエッチング プロファイルが可能になります。

機械的耐性もシリコン エッチング シールド リングの注目すべき特徴です。厳しい公差で製造されることにより、電極周囲の正確な位置決めが保証され、チャンバーの間隔と形状が維持されます。この機械的精度により、再現可能なプロセス条件が生成され、個々の実行間のばらつきが少なくなり、半導体の大量生産が可能になります。材料自体はプラズマ環境との適合性に優れています。したがって、その構造を侵食することにより、通常、長い耐用年数とプロセスパフォーマンスの安定性が得られます。

耐久性と費用対効果は、さらに 2 つの貴重な利点です。シールド リングは、チャンバーの不要なセクションをプラズマからシールドすることで、他の重要なコンポーネントの摩耗を軽減し、メンテナンスの労力を軽減し、全体的な稼働時間を延長します。耐用年数が長く、交換頻度が低いため、半導体工場にとって生産性が向上し、運用コストが削減される費用対効果の高いソリューションとなります。

のシリコンシールド リングは、メーカーが製造するさまざまなプラズマ エッチング チャンバーに対応できるようにいくつかのサイズと形状が用意されているため、ツール構成やプロセス仕様ごとにカスタマイズすることもでき、同時に最適なフィット感を実現します。さらに、表面処理と研磨を利用して粒子の発生をさらに低減し、超クリーンな製造基準を達成することができます。