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製品
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ICPエッチングキャリアプレート
Semicorex の ICP エッチング キャリア プレートは、要求の厳しいウェーハの取り扱いや薄膜堆積プロセスに最適なソリューションです。当社の製品は、優れた耐熱性と耐腐食性、均一な熱均一性、および層流のガス流パターンを提供します。清潔で滑らかな表面を備えた当社のキャリアは、新品のウェーハを扱うのに最適です。
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PSSプロセス用ICPプラズマエッチング装置
高品質のエピタキシーおよび MOCVD プロセスには、PSS プロセス用の Semicorex の ICP プラズマ エッチング システムをお選びください。当社の製品はこれらのプロセス向けに特別に設計されており、優れた耐熱性と耐腐食性を備えています。清潔で滑らかな表面を備えた当社のキャリアは、新品のウェーハを扱うのに最適です。
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炭化ケイ素 ICP エッチングキャリア
エッチングプロセス用の信頼性の高いウェーハキャリアをお探しですか? Semicorex の炭化ケイ素 ICP エッチング キャリア以外に探す必要はありません。当社の製品は、高温や過酷な化学洗浄に耐えるように設計されており、耐久性と寿命が保証されています。清潔で滑らかな表面を備えた当社のキャリアは、新品のウェーハを扱うのに最適です。
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ICPエッチングプロセス用SiCプレート
Semicorex の ICP エッチングプロセス用 SiC プレートは、薄膜堆積やウェーハハンドリングにおける高温で過酷な化学処理要件に最適なソリューションです。当社の製品は優れた耐熱性と均一な熱均一性を誇り、一貫したエピ層の厚さと抵抗を保証します。当社の高純度 SiC 結晶コーティングは、きれいで滑らかな表面を備えており、新品のウェーハに最適なハンドリングを提供します。
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LPEエピタキシャル成長用SiCコーティングバレルサセプタ
Semicorex LPE エピタキシャル成長用 SiC コーティング バレル サセプタは、長期間にわたって一貫した信頼性の高いパフォーマンスを提供するように設計された高性能製品です。均一な熱プロファイル、層流ガス流パターン、および汚染防止により、ウェーハチップ上に高品質のエピタキシャル層を成長させるのに理想的な選択肢となります。そのカスタマイズ性とコスト効率により、市場での競争力の高い製品となっています。
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誘導加熱バレルエピシステム
優れた熱伝導率と熱分布特性を備えたグラファイト サセプターが必要な場合は、Semicorex 誘導加熱バレル エピ システム以外に探す必要はありません。高純度 SiC コーティングは、高温および腐食環境において優れた保護を提供するため、半導体製造用途での使用に理想的です。
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高度で耐久性のある Graphite-Susceptor を購入しますか?セミコレックスは間違いなくあなたの良い選択です。私たちは、中国で最も競争力のある Graphite-Susceptor メーカーおよびサプライヤーの 1 つとして知られています。バルク梱包も承っております。お住まいの地域の実際のニーズを満たすために、カスタマイズされたサービスが必要になる場合があります。ウェブページの連絡先情報からメッセージを残すことができます。私たちは、新旧の顧客が相談と交渉のために私たちの工場を訪問することを心から歓迎します。
