ICPエッチングキャリアプレート

Semicorex の ICP エッチングキャリアプレートは、要求の厳しいウェーハの取り扱いや薄膜堆積プロセスに最適なソリューションです。当社の製品は、優れた耐熱性と耐腐食性、均一な熱均一性、および層流のガス流パターンを提供します。清潔で滑らかな表面を備えた当社のキャリアは、新品のウェーハを扱うのに最適です。

お問い合わせを送信

製品説明

Semicorex の ICP エッチングキャリアプレートは、ウェーハのハンドリングや薄膜堆積プロセスにおいて優れた耐久性と寿命を実現します。当社の製品は、優れた耐熱性と耐食性、均一な熱均一性、層流パターンを誇ります。清潔で滑らかな表面を備えた当社のキャリアは、新品のウェーハを最適に取り扱うことができます。高温、化学洗浄、および高い熱均一性を引き出します。
ICP エッチングキャリアプレートの詳細については、今すぐお問い合わせください。

ICPエッチングキャリアプレートのパラメータ

CVD-SICコーティングの主な仕様
SiC-CVDの特性
結晶構造	FCC βフェーズ
密度	g/cm3	3.21
硬度	ビッカース硬さ	2500
粒度	μm	2~10
化学純度	%	99.99995
熱容量	J kg-1 K-1	640
昇華温度	℃	2700
感覚の強さ	MPa(室温4点)	415
ヤング率	Gpa (4pt曲げ、1300℃)	430
熱膨張 (C.T.E)	10-6K-1	4.5
熱伝導率	(W/mK)	300