Semicorex の ICP プラズマ エッチング システム用 SiC コーティング キャリアは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハ ハンドリング プロセスにとって信頼性が高くコスト効率の高いソリューションです。当社のキャリアは、優れた耐熱性、均一な熱均一性、耐久性のある耐薬品性を提供する微細な SiC 結晶コーティングを備えています。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の ICP エッチング ウェーハ ホルダーは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハ ハンドリング プロセスに最適なソリューションです。当社のキャリアは、最大 1600°C までの安定した高温酸化耐性を備えており、均一な熱プロファイル、層流ガス フロー パターンを保証し、汚染や不純物の拡散を防ぎます。
続きを読むお問い合わせを送信優れた熱伝導率と熱分布特性を備えたグラファイト サセプターが必要な場合は、Semicorex 誘導加熱バレル エピ システム以外に探す必要はありません。高純度 SiC コーティングは、高温および腐食環境において優れた保護を提供するため、半導体製造用途での使用に理想的です。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の半導体エピタキシャル リアクター用バレル構造は、その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、LPE プロセスやその他の半導体製造用途での使用に最適です。高純度 SiC コーティングは、高温および腐食環境において優れた保護を提供します。
続きを読むお問い合わせを送信半導体製造アプリケーションで使用する高性能グラファイト サセプタをお探しの場合、Semicorex SiC コーティング グラファイト バレル サセプタが理想的な選択肢です。その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、高温および腐食環境において信頼性が高く一貫したパフォーマンスを実現するための有力な選択肢となっています。
続きを読むお問い合わせを送信最も要求の厳しい高温および腐食環境でも確実かつ一貫して機能するグラファイト サセプターが必要な場合、液相エピタキシー用 Semicorex バレル サセプターが最適です。炭化ケイ素コーティングは優れた熱伝導性と熱分布を提供し、半導体製造用途で優れたパフォーマンスを保証します。
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