製品

View as

ICPプラズマエッチング装置

Semicorex の ICP プラズマエッチングシステム用 SiC コーティングキャリアは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハハンドリングプロセスにとって信頼性が高くコスト効率の高いソリューションです。当社のキャリアは、優れた耐熱性、均一な熱均一性、耐久性のある耐薬品性を提供する微細な SiC 結晶コーティングを備えています。

続きを読むお問い合わせを送信

ICPエッチングウェーハホルダー

Semicorex の ICP エッチングウェーハホルダーは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハハンドリングプロセスに最適なソリューションです。当社のキャリアは、最大 1600°C までの安定した高温酸化耐性を備えており、均一な熱プロファイル、層流ガスフローパターンを保証し、汚染や不純物の拡散を防ぎます。

続きを読むお問い合わせを送信

誘導加熱バレルエピシステム

優れた熱伝導率と熱分布特性を備えたグラファイトサセプターが必要な場合は、Semicorex 誘導加熱バレルエピシステム以外に探す必要はありません。高純度 SiC コーティングは、高温および腐食環境において優れた保護を提供するため、半導体製造用途での使用に理想的です。

続きを読むお問い合わせを送信

半導体エピタキシャルリアクタのバレル構造

Semicorex の半導体エピタキシャルリアクター用バレル構造は、その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、LPE プロセスやその他の半導体製造用途での使用に最適です。高純度 SiC コーティングは、高温および腐食環境において優れた保護を提供します。

続きを読むお問い合わせを送信

SiC コーティングされたグラファイトバレルサセプター

半導体製造アプリケーションで使用する高性能グラファイトサセプタをお探しの場合、Semicorex SiC コーティンググラファイトバレルサセプタが理想的な選択肢です。その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、高温および腐食環境において信頼性が高く一貫したパフォーマンスを実現するための有力な選択肢となっています。

続きを読むお問い合わせを送信

液相エピタキシー用バレルサセプター

最も要求の厳しい高温および腐食環境でも確実かつ一貫して機能するグラファイトサセプターが必要な場合、液相エピタキシー用 Semicorex バレルサセプターが最適です。炭化ケイ素コーティングは優れた熱伝導性と熱分布を提供し、半導体製造用途で優れたパフォーマンスを保証します。

続きを読むお問い合わせを送信

<1 2 >

高度で耐久性のある Carbide-Coated-Graphite を購入しますか?セミコレックスは間違いなくあなたの良い選択です。私たちは、中国で最も競争力のある Carbide-Coated-Graphite メーカーおよびサプライヤーの 1 つとして知られています。バルク梱包も承っております。お住まいの地域の実際のニーズを満たすために、カスタマイズされたサービスが必要になる場合があります。ウェブページの連絡先情報からメッセージを残すことができます。私たちは、新旧の顧客が相談と交渉のために私たちの工場を訪問することを心から歓迎します。