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RTP SICコーティングプレート

RTP SICコーティングプレート

Semicorex RTP SICコーティングプレートは、迅速な熱加工環境に使用するために設計された高性能ウェーハキャリアです。大手半導体メーカーから信頼されているSemicorexは、厳密な品質基準と精密製造に支えられた優れた熱安定性、耐久性、および汚染制御を提供します。
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RTPリング

RTPリング

Semicorex RTP リングは、高速熱処理 (RTP) システムの高性能アプリケーション向けに設計された SiC コーティングされたグラファイト リングです。半導体製造における優れた耐久性、精度、信頼性を保証する先進の材料技術を備えたセミコレックスをお選びください。*
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RTP グラファイトキャリアプレート

RTP グラファイトキャリアプレート

Semicorex の RTP グラファイト キャリア プレートは、エピタキシャル成長やウェーハ ハンドリング処理などの半導体ウェーハ処理アプリケーションに最適なソリューションです。当社の製品は、優れた耐熱性と熱均一性を提供するように設計されており、エピタキササセプタが成膜環境にさらされても高い耐熱性と耐食性を備えています。
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RTP SiC コーティングキャリア

RTP SiC コーティングキャリア

Semicorex RTP SiC コーティング キャリアは、優れた耐熱性と熱均一性を備え、半導体ウェーハ処理用途に最適なソリューションです。高品質の SiC コーティングされたグラファイトを備えたこの製品は、エピタキシャル成長のための最も過酷な堆積環境に耐えるように設計されています。高い熱伝導率と優れた熱分布特性により、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄において信頼性の高いパフォーマンスが保証されます。
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RTP/RTA SiC コーティングキャリア

RTP/RTA SiC コーティングキャリア

Semicorex RTP/RTA SiC コーティング キャリアは、成膜環境の最も厳しい条件に耐えるように設計されています。高い耐熱性と耐腐食性を備えたこの製品は、エピタキシャル成長に最適な性能を発揮するように設計されています。 SiC コーティングされたキャリアは、高い熱伝導率と優れた熱分散特性を備えており、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄に対して信頼性の高いパフォーマンスを保証します。
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MOCVD用SiCグラファイトRTPキャリアプレート

MOCVD用SiCグラファイトRTPキャリアプレート

MOCVD 用 Semicorex SiC グラファイト RTP キャリア プレートは、優れた耐熱性と熱均一性を備え、半導体ウェーハ処理用途に最適なソリューションです。高品質の SiC コーティングされたグラファイトを使用したこの製品は、エピタキシャル成長のための最も過酷な堆積環境に耐えるように設計されています。高い熱伝導率と優れた熱分布特性により、RTA、RTP、または過酷な化学洗浄において信頼性の高いパフォーマンスが保証されます。
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