露光装置のスケルトン

Semicorex リソグラフィー マシンのスケルトンは、半導体製造の厳しい要求を満たす優れた材料特性を組み合わせています。 SiC は優れた剛性と剛性を備え、機械的応力下での変形を最小限に抑えます。これは、リソグラフィープロセス中に正確な位置合わせと精度を維持するために非常に重要です。

炭化ケイ素は優れた熱安定性を示し、大きな膨張や収縮をすることなく高温に耐えます。リソグラフィ マシン スケルトンのこの安定性は、温度が変動する環境で一貫したパフォーマンスと精度を維持するために不可欠です。 SiC の低い熱膨張係数は、寸法変化を最小限に抑えるのに役立ち、熱サイクル中にリソグラフィー マシンのスケルトンが安定して正確に保たれるようにします。

炭化ケイ素ベースのリソグラフィー マシンのスケルトンは、特に半導体産業における高度なフォトリソグラフィー装置で使用するために設計されています。その役割は、光学システム、ステージ、その他の精密機器などの重要なコンポーネントをサポートする堅牢で安定したフレームワークを提供することです。

リソグラフィー装置の骨格に炭化ケイ素を採用することで、高い剛性、熱安定性、耐薬品性、軽量強度を兼ね備えています。これらの特性により、半導体デバイスの製造に必要な精度と信頼性を確保するための理想的な選択肢となります。