エピタキシャルウェーハボート

Semicorex エピタキシャル ウェーハ ボートは、半導体製造におけるウェーハ処理に最適なソリューションです。当社のエピタキシャル ウェーハ ボートは、高温や化学的腐食に対する優れた耐性を備えた高品質の炭化ケイ素 (SiC) セラミックで作られています。
当社の炭化ケイ素エピタキシャル ウェーハ ボートは、粒子の発生を最小限に抑える滑らかな表面を備えており、製品の最高レベルの純度を保証します。優れた熱伝導性と優れた機械的強度を備えた当社のボートは、一貫した信頼性の高い結果を提供します。
当社のエピタキシャル ウェーハ ボートは、すべての標準的なウェーハ処理装置と互換性があり、最大 1600°C の温度に耐えることができます。取り扱いや洗浄が簡単なため、製造ニーズに合わせてコスト効率が高く効率的な選択肢となります。
当社の専門家チームは最高の品質とサービスを提供することに尽力しています。当社はお客様の特定の要件を満たすカスタム設計を提供し、当社の製品は品質保証プログラムによって裏付けられています。

エピタキシャルウェーハボートのパラメータ

SSiC と RBSiC の違い:

1. 焼結プロセスが異なります。 RBSiCは炭化ケイ素に低温で遊離Siを浸透させたもので、SSiCは2100度で自然収縮により形成されます。

2. SSiC はより滑らかな表面、より高密度、より高い強度を備えています。より厳しい表面要件を持つ一部のシーリングでは、SSiC の方が優れています。

3.異なるPHと温度で異なる使用時間、SSiCはRBSiCより長い

炭化珪素エピタキシャルウェーハボートの特長

MOCVD法によりコーティングされた高純度SiC
優れた耐熱性と均熱性
微細なSiC結晶コーティングにより滑らかな表面を実現
薬品洗浄に対する高い耐久性
ひび割れや剥離が起きにくい素材設計となっております。