半導体プロセス向けの耐久性のあるフォーカスリング

当社の半導体処理用の耐久性のあるフォーカス リングは、ウェーハのエッジや周囲のエッチングの均一性を向上させ、汚染や予定外のメンテナンスを最小限に抑えるように設計されています。これらは、急速熱アニーリング (RTA)、急速熱処理 (RTP)、および過酷な化学洗浄に対して非常に安定しています。

Semicorex では、半導体プロセス向けに高品質で費用対効果の高い耐久性のあるフォーカス リングを提供することに重点を置き、顧客満足度を優先し、費用対効果の高いソリューションを提供します。当社は、高品質の製品と優れた顧客サービスを提供する、お客様の長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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半導体プロセス用耐久性フォーカスリングのパラメータ

半導体プロセス用高耐久フォーカスリングの特長

●高純度グラファイトとSiCコーティングにより耐ピンホール性と長寿命を実現。

●グラファイト基板とSiC層はともに熱伝導率が高く、熱分布特性に優れています。

●SiCコーティングを薄層に施し、寿命を向上させます。