Semicorex シリコン アニーリング ボートは、シリコン ウェーハの取り扱いと処理のために細心の注意を払って設計されており、高性能半導体デバイスの実現に重要な役割を果たします。その独自の設計機能と材料特性により、拡散や酸化などの重要な製造ステップに不可欠なものとなり、均一な処理を保証し、歩留まりを最大化し、半導体デバイスの全体的な品質と信頼性に貢献します。**
自然な処理環境向けの超高純度: Semicorex シリコン アニーリング ボートは、超高純度シリコン (最大 13N 純度) から作られており、高温処理中の汚染のリスクを最小限に抑えます。この卓越した純度により、ウェーハが自然な環境にさらされることが保証され、デバイスの性能を低下させ、歩留まりを低下させる可能性がある不要な不純物の導入が防止されます。
ウェーハとの接触を減らしてダメージを最小限に抑える:シリコン アニーリング ボートの滑らかで研磨された表面は、ウェーハとの接触点を最小限に抑え、輸送および処理中に傷、欠け、またはその他の機械的損傷が発生するリスクを大幅に軽減します。この慎重な取り扱いによりウェーハの完全性が維持され、全体的なプロセスの歩留まりが向上し、デバイスの高品質化に貢献します。
パフォーマンスを最適化するためのカスタマイズ可能な設計: シリコンアニーリングボートの設計は、ボートの形状、長さ、角度、ウェーハサポートの歯の数の変化など、特定のプロセス要件を満たすように調整できます。このカスタマイズにより、炉内のガスフローダイナミクス、温度均一性、ウェーハ間隔の最適化が可能になり、幅広いデバイス形状やプロセスパラメータに対して一貫性と再現性のある処理結果が保証されます。
長時間動作時の高ポリシリコン堆積限界:シリコン アニーリング ボートは、ポリシリコンの堆積に対して高い耐性を示し、洗浄や交換が必要になるまでの長時間の稼働を可能にします。この延長された寿命により、メンテナンスに伴う機器のダウンタイムが減少し、生産能力の向上と全体的な製造コストの削減に貢献します。