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ICPプラズマエッチング装置

ICPプラズマエッチング装置

Semicorex の ICP プラズマ エッチング システム用 SiC コーティング キャリアは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハ ハンドリング プロセスにとって信頼性が高くコスト効率の高いソリューションです。当社のキャリアは、優れた耐熱性、均一な熱均一性、耐久性のある耐薬品性を提供する微細な SiC 結晶コーティングを備えています。

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ICPエッチングプロセス用ウェーハホルダー

ICPエッチングプロセス用ウェーハホルダー

Semicorex の ICP エッチングプロセス用ウェーハホルダーは、要求の厳しいウェーハハンドリングや薄膜堆積プロセスに最適です。当社の製品は、優れた耐熱性と耐腐食性、均一な熱均一性、および一貫した信頼性の高い結果をもたらす最適な層流ガス フロー パターンを誇ります。

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PSSエッチング用途向けシリコンエッチングプレート

PSSエッチング用途向けシリコンエッチングプレート

Semicorex の PSS エッチング アプリケーション用シリコン エッチング プレートは、エピタキシャル成長およびウェーハ ハンドリング プロセス用に特別に設計された高品質の超高純度グラファイト キャリアです。当社のキャリアは、過酷な環境、高温、過酷な化学洗浄に耐えることができます。 PSS エッチング用途用のシリコン エッチング プレートは、優れた熱分布特性、高い熱伝導率を備え、コスト効率に優れています。当社の製品は多くのヨーロッパおよびアメリカ市場で広く使用されており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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