PSSエッチング用途向けシリコンエッチングプレート

Semicorex の PSS エッチングアプリケーション用シリコンエッチングプレートは、エピタキシャル成長およびウェーハハンドリングプロセス用に特別に設計された高品質の超高純度グラファイトキャリアです。当社のキャリアは、過酷な環境、高温、過酷な化学洗浄に耐えることができます。 PSS エッチング用途用のシリコンエッチングプレートは、優れた熱分布特性、高い熱伝導率を備え、コスト効率に優れています。当社の製品は多くのヨーロッパおよびアメリカ市場で広く使用されており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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製品説明

Semicorex の PSS エッチングアプリケーション用シリコンエッチングプレートは、最も要求の厳しいエピタキシー装置アプリケーション向けに設計されています。当社の超高純度グラファイトキャリアは、過酷な環境、高温、過酷な化学洗浄に耐えることができます。 SiC コーティングされたキャリアは、優れた熱分布特性と高い熱伝導率を備え、コスト効率に優れています。

PSS エッチング用途のシリコンエッチングプレートのパラメータ

CVD-SICコーティングの主な仕様
SiC-CVDの特性
結晶構造	FCC βフェーズ
密度	g/cm3	3.21
硬度	ビッカース硬さ	2500
粒度	μm	2~10
化学純度	%	99.99995
熱容量	J kg-1 K-1	640
昇華温度	℃	2700
感覚の強さ	MPa (RT 4 点)	415
ヤング率	Gpa (4pt曲げ、1300℃)	430
熱膨張 (C.T.E)	10-6K-1	4.5
熱伝導率	(W/mK)	300