PSSエッチング用エッチングキャリアホルダー

Semicorex では、PSS エッチング用のエッチング キャリア ホルダーを、エピタキシャル成長やウェーハ取り扱いプロセスに必要な過酷な環境向けに特別に設計しました。当社の超高純度グラファイトキャリアは、MOCVD、エピタキシーサセプタ、パンケーキまたはサテライトプラットフォーム、エッチングなどのウェーハハンドリングプロセスなどの薄膜堆積フェーズに最適です。 SiCコートキャリアは耐熱性、耐食性が高く、熱分布特性に優れ、熱伝導率も高いです。当社の製品は費用対効果が高く、価格面でも大きなメリットがあります。

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PSSエッチング用エッチングキャリアホルダーのパラメータ

PSSエッチング用エッチングキャリアホルダーの特長

- 剥がれを避け、すべての表面を確実にコーティングしてください。

高温酸化耐性：1600℃までの高温でも安定

高純度: 高温塩素化条件下での CVD 化学蒸着によって製造されます。

耐食性：高硬度、緻密な表面、微細な粒子。

耐食性: 酸、アルカリ、塩および有機試薬。

- 最適な層流ガス流パターンを実現

- 熱プロファイルの均一性を保証

- 汚染や不純物の拡散を防止します。