Semicorex の ICP エッチング ウェーハ ホルダーは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハ ハンドリング プロセスに最適なソリューションです。当社のキャリアは、最大 1600°C までの安定した高温酸化耐性を備えており、均一な熱プロファイル、層流ガス フロー パターンを保証し、汚染や不純物の拡散を防ぎます。
続きを読むお問い合わせを送信優れた熱伝導率と熱分布特性を備えたグラファイト サセプターが必要な場合は、Semicorex 誘導加熱バレル エピ システム以外に探す必要はありません。高純度 SiC コーティングは、高温および腐食環境において優れた保護を提供するため、半導体製造用途での使用に理想的です。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex の半導体エピタキシャル リアクター用バレル構造は、その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、LPE プロセスやその他の半導体製造用途での使用に最適です。高純度 SiC コーティングは、高温および腐食環境において優れた保護を提供します。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex 炭化ケイ素コーティングされたグラファイト バレルは、高い耐熱性と耐腐食性が必要な半導体製造用途に最適です。その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、LPE プロセスやその他の高温環境での使用に最適です。
続きを読むお問い合わせを送信Semicorex 炭化ケイ素コーティングバレルサセプターは、高純度 SiC でコーティングされた高品質グラファイト製品で、優れた耐熱性と耐腐食性を備えています。半導体製造業界における LPE アプリケーション向けに特別に設計されています。
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