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ICPエッチングウェーハホルダー

Semicorex の ICP エッチングウェーハホルダーは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハハンドリングプロセスに最適なソリューションです。当社のキャリアは、最大 1600°C までの安定した高温酸化耐性を備えており、均一な熱プロファイル、層流ガスフローパターンを保証し、汚染や不純物の拡散を防ぎます。

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誘導加熱バレルエピシステム

優れた熱伝導率と熱分布特性を備えたグラファイトサセプターが必要な場合は、Semicorex 誘導加熱バレルエピシステム以外に探す必要はありません。高純度 SiC コーティングは、高温および腐食環境において優れた保護を提供するため、半導体製造用途での使用に理想的です。

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半導体エピタキシャルリアクタのバレル構造

Semicorex の半導体エピタキシャルリアクター用バレル構造は、その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、LPE プロセスやその他の半導体製造用途での使用に最適です。高純度 SiC コーティングは、高温および腐食環境において優れた保護を提供します。

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炭化ケイ素コーティングされたグラファイトバレル

Semicorex 炭化ケイ素コーティングされたグラファイトバレルは、高い耐熱性と耐腐食性が必要な半導体製造用途に最適です。その卓越した熱伝導率と熱分布特性により、LPE プロセスやその他の高温環境での使用に最適です。

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炭化ケイ素コーティングされたバレルサセプタ

Semicorex 炭化ケイ素コーティングバレルサセプターは、高純度 SiC でコーティングされた高品質グラファイト製品で、優れた耐熱性と耐腐食性を備えています。半導体製造業界における LPE アプリケーション向けに特別に設計されています。

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