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RTP グラファイトキャリアプレート

Semicorex の RTP グラファイトキャリアプレートは、エピタキシャル成長やウェーハハンドリング処理などの半導体ウェーハ処理アプリケーションに最適なソリューションです。当社の製品は、優れた耐熱性と熱均一性を提供するように設計されており、エピタキササセプタが成膜環境にさらされても高い耐熱性と耐食性を備えています。

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Semicorex は、中国における炭化ケイ素コーティングされたグラファイトサセプタの大規模メーカーおよびサプライヤーです。 Semicorex グラファイトサセプタは、中国で高い耐熱性と耐腐食性を備えたエピタキシー装置用に特別に設計されました。当社の RTP RTA SiC コーティングキャリアは価格面で優れており、ヨーロッパおよびアメリカ市場の多くをカバーしています。私たちはあなたの長期的なパートナーになることを楽しみにしています。

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MOCVDエピタキシャル成長用RTPキャリア

MOCVD エピタキシャル成長用 Semicorex RTP キャリアは、エピタキシャル成長やウェーハハンドリング処理などの半導体ウェーハ処理アプリケーションに最適です。カーボングラファイトサセプタおよび石英るつぼは、グラファイト、セラミックスなどの表面にMOCVDによって加工されます。当社の製品は価格面での優位性があり、ヨーロッパおよびアメリカの多くの市場をカバーしています。私たちは、お客様の中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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ICPエッチングウェーハホルダー

Semicorex の ICP エッチングウェーハホルダーは、エピタキシーや MOCVD などの高温ウェーハハンドリングプロセスに最適なソリューションです。当社のキャリアは、最大 1600°C までの安定した高温酸化耐性を備えており、均一な熱プロファイル、層流ガスフローパターンを保証し、汚染や不純物の拡散を防ぎます。

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バレルレシーバーエピシステム

Semicorex バレルサセプタエピシステムは、優れたコーティング密着性、高純度、耐高温酸化性を備えた高品質の製品です。均一な熱プロファイル、層流ガス流パターン、および汚染防止により、ウェーハチップ上のエピキシャル層の成長には理想的な選択肢となります。コスト効率とカスタマイズ性により、市場での競争力の高い製品となっています。

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エピタキシャルリアクターチャンバー用のSiCコーティングサセプターバレル

Semicorex のエピタキシャルリアクターチャンバー用 SiC コーティングサセプターバレルは、優れた熱分布と熱伝導特性を備え、半導体製造プロセス向けの信頼性の高いソリューションです。また、腐食、酸化、高温に対する耐性も優れています。

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