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会社のニュース

Semicorex 特殊グラファイト技術

Semicorex 特殊グラファイト技術

Semicorex は、半導体業界の上流グラファイト材料メーカーとして、材料の入手可能性、使いやすさ、耐久性を優先し、この分野での卓越性の基準を確立しています。

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MOCVD プロセスにおける SiC コーティングされたサセプター

MOCVD プロセスにおける SiC コーティングされたサセプター

CVD SiC コーティングされたサセプタは、有機金属化学気相成長 (MOCVD) プロセスで特殊なウェーハホルダーとして機能し、半導体製造において重要な役割を果たします。これらのコンポーネントは、高温や腐食環境などの極端な条件下でのエピタキシー中にウェーハの構造的完全性を維持するために不可欠です。 **

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反応焼結SiCセラミックスとその物性に関する研究

反応焼結SiCセラミックスとその物性に関する研究

炭化ケイ素（SiC）は、ケイ素と炭素原子の共有結合によって形成される化合物で、優れた耐摩耗性、耐熱衝撃性、耐食性、高い熱伝導率で知られています。

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炭化ケイ素セラミックはどのように応用され、耐摩耗性と高温耐性における将来性はどうなるでしょうか?

炭化ケイ素セラミックはどのように応用され、耐摩耗性と高温耐性における将来性はどうなるでしょうか?

炭化ケイ素 (SiC) セラミックは、高い強度、硬度、耐摩耗性、耐食性、高温安定性で知られており、その導入以来、多くの産業分野にわたって計り知れない可能性と価値を実証してきました。

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半導体および太陽光発電分野におけるSiCセラミックスの応用と開発の見通しを分析する

半導体および太陽光発電分野におけるSiCセラミックスの応用と開発の見通しを分析する

炭化ケイ素（SiC）は重要な高級セラミック材料であり、高温耐性、耐食性、耐摩耗性、高温機械的強度、耐酸化性などの優れた特性を備えています。これらの特性により、半導体、原子力、防衛、宇宙技術などのハイテク分野での応用が大いに期待されています。

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SiC セラミックの作製に無加圧焼結を選択する理由

SiC セラミックの作製に無加圧焼結を選択する理由

超高温の合成温度と、SiC セラミックの緻密な焼結を達成することが難しいため、その開発は制限されてきました。焼結プロセスはSiCセラミックにとって極めて重要です。

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