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業界ニュース

Infineon Unveils World’s First 300mm Power GaN Wafer

Infineon Unveils World’s First 300mm Power GaN Wafer

最近、インフィニオンテクノロジーズは、世界初の 300mm パワー窒化ガリウム (GaN) ウェーハ技術の開発に成功したと発表しました。

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単結晶シリコンの製造

単結晶シリコンの製造

単結晶シリコンの製造に使用される 3 つの主な方法は、チョクラルスキー (CZ) 法、カイロプロス法、およびフロートゾーン (FZ) 法です。

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半導体プロセスにおける酸化

半導体プロセスにおける酸化

酸化プロセスは、異なる化学物質間のバリアとして機能する酸化層として知られる保護層をウェーハ上に作成することにより、このような問題を防ぐ上で重要な役割を果たします。

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窒化ケイ素とは

窒化ケイ素とは

窒化ケイ素 (Si3N4) は、高度な高温構造用セラミックスの開発における重要な材料です。

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シリコンウェーハと炭化ケイ素ウェーハのエッチングの違いを理解する

シリコンウェーハと炭化ケイ素ウェーハのエッチングの違いを理解する

エッチングプロセス: シリコンと炭化ケイ素

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静電チャック(ESC)とは何ですか?

静電チャック(ESC)とは何ですか?

半導体製造では、エッチングプロセスの精度と安定性が最も重要です。高品質のエッチングを実現するための重要な要素の 1 つは、プロセス中にウェーハがトレイ上で完全に平らであることを保証することです。

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