TaC コーティングを施した MOCVD サセプタ

TaC コーティングを施した Semicorex MOCVD サセプタは、高性能と耐久性を保証する優れた特性を備えた厳選されたグラファイトから作られています。グラファイトは、MOCVD プロセスに特有の高温に耐えるだけでなく、優れた熱伝導性と電気伝導性でも知られています。この MOCVD サセプタの最大の特徴は、TaC コーティングにあります。炭化タンタルは、その卓越した硬度、化学的不活性性、熱安定性で知られる耐火セラミック材料です。グラファイトサセプターを TaC でコーティングすることにより、MOCVD プロセスの厳しい条件に耐えるだけでなく、システムの全体的なパフォーマンスと耐久性も向上するコンポーネントを実現します。

TaC コーティングを施した MOCVD サセプターは、コーティングとグラファイト基板間の強力な結合を保証します。これにはグラファイトの慎重な選択が重要な役割を果たします。 TaC コーティングを施した MOCVD サセプタで使用されるグラファイトの熱膨張係数 (CTE) は、TaC コーティングの熱膨張係数 (CTE) とほぼ一致しています。この CTE 値の厳密な一致により、MOCVD プロセスで一般的な急速加熱および冷却サイクル中に発生する可能性のある熱応力が最小限に抑えられます。その結果、TaC コーティングはグラファイト基板により強固に付着し、サセプターの機械的完全性と寿命が大幅に向上します。

TaC コーティングを施した MOCVD サセプタは耐久性が高く、MOCVD プロセスの機械的ストレスや過酷な条件に劣化することなく耐えることができます。この耐久性は、高収率のエピタキシャル成長に必要な正確な形状と表面品質を維持するために不可欠です。また、堅牢な TaC コーティングによりサセプタの動作寿命が延長され、交換の頻度が減り、MOCVD システムの全体的な所有コストが削減されます。

TaC の熱安定性により、TaC コーティングを施した MOCVD サセプタは、効率的な MOCVD プロセスに必要な高温で動作することができます。これは、TaC コーティングを施した MOCVD サセプタが、低温 GaN 成長から高温 SiC エピタキシーまで幅広い堆積プロセスをサポートできることを意味し、さまざまな用途に合わせて MOCVD システムを最適化しようとしている半導体メーカーにとって貴重なコンポーネントとなっています。

TaC コーティングを施した Semicorex MOCVD サセプタは、半導体エピタキシーにおける大きな進歩を表しています。グラファイトと TaC の特性を組み合わせることで、当社は現代の MOCVD プロセスの要求を満たすだけでなく、それを超えるサセプターを開発しました。グラファイト基材と TaC コーティング間の熱膨張係数 (CTE) が厳密に一致しているため、強力な結合が保証され、TaC の優れた硬度、化学的不活性、熱安定性により、比類のない保護と耐久性が実現します。これにより、サセプタが優れた性能を発揮し、エピタキシャル成長の品質が向上し、MOCVD システムの動作寿命が延長されます。半導体メーカーは、TaC コーティングを施した当社の MOCVD サセプタを信頼して、より高い歩留まり、より低いコスト、より優れたプロセスの柔軟性を実現することができ、半導体製造における技術革新と卓越性を追求する上で不可欠なコンポーネントとなっています。