グリッド付きサセプター

Semicorex グリッド付きサセプタは、半導体ウェーハのエピタキシャル成長プロセスで使用される特殊なコンポーネントです。この重要な装置は、有機金属化学気相成長 (MOCVD) システムでの材料の堆積中にウェーハを搬送およびサポートするように設計されています。グリッド付きサセプタは、半導体ウェーハ上のエピタキシャル層の均一かつ制御された成長を保証する上で極めて重要な役割を果たします。

グリッド付きサセプターは、その機能に最適化された材料で構築されています。この場合、MOCVD SiC (有機金属化学気相成長シリコンカーバイド) でコーティングされたグラファイトで作られています。この材料の選択により、高温耐性、化学的安定性、優れた熱伝導性など、いくつかの利点が得られます。グラファイト上の SiC コーティングは、エピタキシャル成長プロセス中に遭遇する過酷な条件に対するサセプターの耐久性と耐性を強化します。

グリッド構造のサセプタは、半導体ウェーハの支持機構として機能します。効率的なガスの流れと材料の均一な堆積を可能にしながら、ウェーハを所定の位置にしっかりと保持するように戦略的に設計されています。グリッド パターンは、熱と反応物質をウェーハ表面全体に均一に分散するのに役立ち、エピタキシャル層の厚さと組成の正確な制御に貢献します。

Semicorex グリッド付きサセプタは、高度な半導体デバイスの製造プロセスにおいて重要なコンポーネントです。その堅牢な構造と特殊な設計により、高品質のエピタキシャル成長を達成するための不可欠なツールとなり、優れた性能と信頼性を備えた半導体の生産を保証します。